Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù),，可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級(jí)精確對(duì)準(zhǔn),。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3D printing by 2GL®在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時(shí)兼顧打印速度,，適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域,。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面。整個(gè)打印過(guò)程在最高速度掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)制激光功率,。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整,，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無(wú)需切片步驟,，不產(chǎn)生形狀失真的要求下,，您將獲得具有無(wú)瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀。在灰度光刻技術(shù)的幫助下,，芯片制造商可以更好地滿足不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求,。重慶2GL灰度光刻技術(shù)

微納3D打印其實(shí)和與灰度光刻有點(diǎn)相似，但是原理不同,，我們常見(jiàn)的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢(shì)是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu),，對(duì)于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過(guò)LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對(duì)于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,，并通過(guò)納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，北京2GL灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù),。

這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性,。通過(guò)先進(jìn)的光刻技術(shù)，它能夠在微米級(jí)別上進(jìn)行精確的圖案制作，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平,。同時(shí),，設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升，減少了生產(chǎn)過(guò)程中的誤差和損耗,，提高了生產(chǎn)效率,。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝光和快速開發(fā)的技術(shù),，**縮短了生產(chǎn)周期,。相比傳統(tǒng)的光刻設(shè)備,，它的生產(chǎn)速度提高了30%,，提升了我們的生產(chǎn)效率。同時(shí),，設(shè)備還具備多通道同時(shí)加工的能力,，可以同時(shí)處理多個(gè)產(chǎn)品，進(jìn)一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能,。

對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術(shù),。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學(xué)互連,。同時(shí)高精度檢測(cè)系統(tǒng)還可以識(shí)別基準(zhǔn)點(diǎn)或拓?fù)浠滋卣?，確保對(duì)3D打印進(jìn)行高度精確的對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,，一種基于場(chǎng)景圖概念的軟件工具,，可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織,，用于定義何時(shí),、何地、以及如何進(jìn)行打印,。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征,，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,，可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記,，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配,。與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比,，灰度光刻在制造復(fù)雜芯片時(shí)具有明顯的優(yōu)勢(shì)。

Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,，一種基于場(chǎng)景圖概念的軟件工具,，可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織，用于定義何時(shí),、何地,、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征,，例如芯片邊緣和光纖表面,。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記,，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配,。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配?；叶裙饪碳夹g(shù)作為一種新型的光刻技術(shù),，具有突破傳統(tǒng)光刻技術(shù)的優(yōu)勢(shì)。北京2GL灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。重慶2GL灰度光刻技術(shù)

   Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無(wú)掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí),，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見(jiàn)即所得,。重慶2GL灰度光刻技術(shù)