Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭  Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您淺析增材制造技術(shù)在制造業(yè)中的特點(diǎn)與應(yīng)用,。湖南工業(yè)級(jí)Nanoscribe中國(guó)

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過(guò)3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上,。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè),，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖,，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn),。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次,，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別,、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng),。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下,，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。湖南微納米NanoscribeQuantum X shapeNanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。

基于雙光子聚合（2PP）原理的雙光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技術(shù)，具備體素動(dòng)態(tài)控制能力,。在掃描激光焦點(diǎn)橫跨掃描平面時(shí),，調(diào)制曝光劑量會(huì)改變光敏樹(shù)脂內(nèi)的體素大小，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)聚合體素尺寸的精細(xì)可控變化,。這是激光功率調(diào)制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺(tái)運(yùn)動(dòng)同步的結(jié)果,。為此，將灰度圖像轉(zhuǎn)換為曝光級(jí)別的空間變化,，從而在一個(gè)平面上打印不同的體素高度,。 2GL有什么優(yōu)勢(shì),？ 雙光子灰度光刻 技術(shù)（2GL®）使用激光束調(diào)制和高速振鏡的高頻同步進(jìn)行單體素調(diào)節(jié)，從而實(shí)現(xiàn)光學(xué)質(zhì)量表面結(jié)構(gòu),。通過(guò)高精度定位單元和自校準(zhǔn)程序,，可在拼接相鄰打印區(qū)域時(shí)以出色準(zhǔn)確性進(jìn)行打印，以制造大型結(jié)構(gòu),。2GL動(dòng)態(tài)調(diào)整打印場(chǎng)邊界處的激光劑量,，以補(bǔ)償光敏聚合物的化學(xué)誘導(dǎo)收縮和定位缺陷。通過(guò)這種功能組合,，可以在幾平方厘米的區(qū)域內(nèi)打印出真正的無(wú)縫結(jié)構(gòu),，消除所有拼接痕跡。

   全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工,。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡,、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝,。全球頭一個(gè)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動(dòng)的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來(lái),。QuantumX提供了完全的設(shè)計(jì)自由度、高速的打印效率,、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度,。快速,、準(zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期,，實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工。憑借著獨(dú)有的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會(huì)展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng),。

更多有關(guān)增材制造的咨詢,，歡迎致電納糯三維。

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,，Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強(qiáng)了全球銷(xiāo)售活動(dòng)，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍,。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰,，結(jié)構(gòu)分類(lèi)上更明確。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù),，公司資訊和技術(shù)支持幾大專(zhuān)欄,。比較大化滿足用戶對(duì)信息的了解和需求。Nanoscribe中國(guó)子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國(guó)客戶無(wú)需顧慮語(yǔ)言障礙,，更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用

想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別，請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司,。北京高分辨率Nanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)

更多有關(guān)3D打印的咨詢,，歡迎致電納糯三維。湖南工業(yè)級(jí)Nanoscribe中國(guó)

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器,。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。 湖南工業(yè)級(jí)Nanoscribe中國(guó)