全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工,。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝,。全球頭一個(gè)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動(dòng)的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來(lái)。QuantumX提供了完全的設(shè)計(jì)自由度,、高速的打印效率,、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度?？焖?、準(zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期，實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工,。憑借著獨(dú)有的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會(huì)展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng),。

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Nanoscribe的技術(shù)在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用,。在光子學(xué)領(lǐng)域,，它可以制造光子晶體、超穎材料,、激光分布回饋術(shù)(DFB Lasers)等,。在微光學(xué)領(lǐng)域，它可以制造微光學(xué)器件和整合型光學(xué),。在微流道技術(shù)領(lǐng)域,，它可以應(yīng)用于生醫(yī)芯片系統(tǒng)、物質(zhì)研究開(kāi)發(fā)與分析以及三維基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)等方面,。在生命科學(xué)領(lǐng)域,，Nanoscribe的技術(shù)可以應(yīng)用于細(xì)胞外數(shù)組結(jié)構(gòu)、干細(xì)胞分離術(shù),、細(xì)胞成長(zhǎng)研究,、細(xì)胞遷移研究以及組織工程等方面。此外,，Nanoscribe的技術(shù)還可以制造游泳microbots,，用于精確高效地將藥物送至身體的目標(biāo)區(qū)域,，以及制作極小的手術(shù)工具，用于顯微外科手術(shù),。

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3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過(guò)成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制,。通過(guò)使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,，機(jī)械,，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說(shuō),，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。

多年來(lái)，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,，并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目,，包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目,。如今,，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開(kāi)發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年,，名為Miliquant,，由德國(guó)聯(lián)邦教育和研究部（簡(jiǎn)稱BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中,。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開(kāi)展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn),，開(kāi)發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,，還需要開(kāi)發(fā)可靠的組件,，以及組裝和制造的新方法,。

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Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過(guò)3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上,。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè),，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖,，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn),。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次,，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別,、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng),。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù),，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下,，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍,。海南實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe子公司