Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競爭,，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D,，一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī),，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin。作為市場上的新選擇之一,，QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”,，可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度,，以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量,。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機(jī)依賴于基于移動鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統(tǒng)控制單元,，并結(jié)合了行業(yè)-級脈沖飛秒激光器,。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件，并且對第三方或定制材料開放,。此外,，它可以通過設(shè)備的集成觸摸屏和遠(yuǎn)程訪問軟件nanoConnectX進(jìn)行控制，允許遠(yuǎn)程控制連接打印機(jī)的打印作業(yè),，將實(shí)驗(yàn)室的準(zhǔn)備時間減少到限度低值,，并在共享系統(tǒng)時簡化團(tuán)隊(duì)協(xié)作Nanoscribe的3D打印設(shè)備具有高度靈活性和可定制性，能夠滿足不同行業(yè)的需求,。北京2PPNanoscribe無掩膜光刻

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實(shí)時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運(yùn)行,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。   重慶進(jìn)口Nanoscribe多少錢微納光學(xué)器件制造,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造公司,，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求,。

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(shù)(2PP) ,，發(fā)明了GRIN 光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝,，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15?μm 直徑）,。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨(dú)特的聚光特性,。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。

Nanoscribe技術(shù)在微納加工、生物醫(yī)學(xué)和光學(xué)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,。

Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)在光子芯表面進(jìn)行打印 ,。光子芯片上的光學(xué)元件的精確對準(zhǔn)，例如作為光子封裝的光學(xué)互連,，是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓?fù)溆成鋵?shí)現(xiàn)的,。在nanoPrintX軟件中，您可以將芯片布局和對準(zhǔn)標(biāo)記添加到打印作業(yè)中,，打印系統(tǒng)會檢測標(biāo)記并將其與打印作業(yè)進(jìn)行匹配,，以確定光子芯片波導(dǎo)的確切位置和方向,。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)微光學(xué)元件和光學(xué)互連具有比較好的光學(xué)性能的同時擁有**小耦合損耗，通過自由空間微光學(xué)耦合（FSMOC）實(shí)現(xiàn)高效的光耦合,，成為光子封裝的強(qiáng)大解決方案,。影響增材制造技術(shù)的因素你了解嗎？歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司,。進(jìn)口Nanoscribe激光直寫

納米尺度結(jié)構(gòu)制造,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。北京2PPNanoscribe無掩膜光刻

雙光子聚合（2PP）是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計自由度的增材制造方法,。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能：首先,，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打??；其次制作高達(dá) 50 毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu)，適用于中尺度打印,。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。Quantum X  shape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以 1 MHz 調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率

北京2PPNanoscribe無掩膜光刻