對(duì)于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn),。首先，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印,。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn),。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn)，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)納米尺度結(jié)構(gòu)制造，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。湖南實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe上海

Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造公司，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司,。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)于主導(dǎo)地位,，并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求,。

湖北2PPNanoscribe微納加工系統(tǒng)生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭       

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡 更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢,，歡迎聯(lián)系 納糯三維科技（上海）有限公司。

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,，機(jī)械,，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說,，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。 Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人等等,。浙江工業(yè)級(jí)Nanoscribe中國(guó)分公司

Nanoscribe技術(shù)在微納加工、生物醫(yī)學(xué)和光學(xué)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,。湖南實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe上海

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度,，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè),，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上,。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖,，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的,。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次,，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果,。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù),，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍,。湖南實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe上海