對(duì)于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先,，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印。然后,，打印的物體必須與光纖的重點(diǎn)部分完全對(duì)齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。

更多有關(guān)3D打印的咨詢,，歡迎致電納糯三維,。重慶微納米Nanoscribe微機(jī)械

   對(duì)于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn),。首先,，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印,。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn),。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ),。

海南雙光子聚合Nanoscribe通過(guò)使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng),，科學(xué)家們實(shí)現(xiàn)了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導(dǎo)的微觀結(jié)構(gòu),。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。   

售后支持和服務(wù)擁有超過(guò)14年的微加工技術(shù)經(jīng)驗(yàn),，我們的技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)努力在短的時(shí)間內(nèi)為客戶提供好的支持。在德國(guó)總部,，中國(guó)分公司和美國(guó)分公司,，以及通過(guò)Nanoscribe認(rèn)證的經(jīng)銷商提供的銷售服務(wù)和技術(shù)支持。我們的跨學(xué)科和多語(yǔ)言技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)為客戶提供各方面的支持:裝機(jī),、維護(hù)和維修現(xiàn)場(chǎng)和線上的培訓(xùn)課程通過(guò)NanoGuide綜合自助服務(wù)平臺(tái)自助查詢電話,、電子郵件和設(shè)備自帶遠(yuǎn)程支持功能基礎(chǔ)操作技巧之外的高階技術(shù)和應(yīng)用支持延長(zhǎng)維修保修合同、升級(jí)服務(wù),、移機(jī)服務(wù)Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。總而言之,，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性（如生命科學(xué),、材料工程、微流體,、微納光學(xué),、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等）  Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人等等,。江蘇實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe三維光刻

使用Nanoscribe技術(shù)可以制造微米級(jí)別的結(jié)構(gòu)和器件。重慶微納米Nanoscribe微機(jī)械

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí),。由于需要多次光刻,，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高,。  重慶微納米Nanoscribe微機(jī)械