Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實現(xiàn)在光子芯表面進(jìn)行打印 。光子芯片上的光學(xué)元件的精確對準(zhǔn),，例如作為光子封裝的光學(xué)互連,，是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓?fù)溆成鋵崿F(xiàn)的。在nanoPrintX軟件中,，您可以將芯片布局和對準(zhǔn)標(biāo)記添加到打印作業(yè)中，打印系統(tǒng)會檢測標(biāo)記并將其與打印作業(yè)進(jìn)行匹配，以確定光子芯片波導(dǎo)的確切位置和方向,。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實現(xiàn)微光學(xué)元件和光學(xué)互連具有比較好的光學(xué)性能的同時擁有**小耦合損耗，通過自由空間微光學(xué)耦合（FSMOC）實現(xiàn)高效的光耦合,，成為光子封裝的強(qiáng)大解決方案,。使用Nanoscribe技術(shù)可以制造微米級別的結(jié)構(gòu)和器件。北京TPPNanoscribe三維光刻

   Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,，激光固化部分流體光敏材料,，逐層固化。使用雙光子聚合,，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米,。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍,。此外,，使用GT2，用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,，基板,，材料和自動化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求湖北微納米NanoscribeNanoscribe的3D打印設(shè)備具有高設(shè)計自由度和高精度的特點,。

Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作

多年來，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,，并且參與了很多3D打印的項目,，包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目,。如今,，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊的項目為期三年,，名為Miliquant，由德國聯(lián)邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助,。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷,、自動駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中,。研發(fā)團(tuán)隊將開展多項實驗,，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,，還需要開發(fā)可靠的組件,，以及組裝和制造的新方法Nanoscribe的打印設(shè)備具有高度3D設(shè)計自由度的特點，而且具備人性化的操作系統(tǒng),。

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競爭,，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D,，一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī),，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin。作為市場上的新選擇之一,，QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”,，可實現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度,，以實現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量,。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機(jī)依賴于基于移動鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統(tǒng)控制單元,，并結(jié)合了行業(yè)-級脈沖飛秒激光器,。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件，并且對第三方或定制材料開放,。此外,，它可以通過設(shè)備的集成觸摸屏和遠(yuǎn)程訪問軟件nanoConnectX進(jìn)行控制，允許遠(yuǎn)程控制連接打印機(jī)的打印作業(yè),，將實驗室的準(zhǔn)備時間減少到限度低值,，并在共享系統(tǒng)時簡化團(tuán)隊協(xié)作生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。湖南實驗室Nanoscribe系統(tǒng)

專注于微納米3D打印設(shè)備的額研發(fā)和應(yīng)用,。北京TPPNanoscribe三維光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭 北京TPPNanoscribe三維光刻