Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻,，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高,。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司歡迎您一起探討雙光子微納3D打印技術(shù)信息,。普陀區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義?？偠灾?，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性（如生命科學(xué)、材料工程,、微流體,、微納光學(xué)、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等）,。衢州生物微納3D打印材料微納米3D打印公司Nanoscribe,，納米精度的樹脂新材料，打印微創(chuàng)手術(shù)用的微型針頭,，微透鏡精密器件,。

微納3D打印技術(shù)的優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：高精度和復(fù)雜性：微納3D打印技術(shù)可以在微米和納米尺度上實(shí)現(xiàn)高精度的打印，能夠制造出具有復(fù)雜幾何形狀和微觀結(jié)構(gòu)的零件,。這種能力使得微納3D打印在生物醫(yī)學(xué),、電子、光學(xué)和航空航天等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,。特別是在需要高精度和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的器件制造中,，微納3D打印技術(shù)展現(xiàn)出了獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。定制化設(shè)計(jì)：微納3D打印技術(shù)可以根據(jù)用戶需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì),，滿足個(gè)性化需求,。設(shè)計(jì)師可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景，靈活調(diào)整打印參數(shù)和材料,，實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新設(shè)計(jì),。這種定制化設(shè)計(jì)的能力使得微納3D打印在特殊材料和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的制造中具有很高的靈活性。材料利用率高：與傳統(tǒng)的加工方法相比,，微納3D打印技術(shù)的材料利用率更高,。在打印過程中,，只有需要的材料才會(huì)被使用，從而避免了不必要的浪費(fèi),。這不僅有助于降低生產(chǎn)成本,，還能提高生產(chǎn)效率，減少對(duì)環(huán)境的影響,。廣泛的應(yīng)用范圍：微納3D打印技術(shù)適用于多種材料和結(jié)構(gòu)類型,，可以制造金屬、塑料,、陶瓷等多種材料的微納結(jié)構(gòu),。這使得它在微機(jī)電系統(tǒng)、微納光學(xué)器件,、微流體器件,、生物醫(yī)療和組織工程、新材料等領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用潛力,。此外,。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān),，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化。Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統(tǒng),。

作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn),，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間,。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件,，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。微納尺度3D打印能批量復(fù)制微小結(jié)構(gòu)，制造出真正處于微觀級(jí)別的器件,，實(shí)現(xiàn)了一般3D打印無(wú)法企及的精度。普陀區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)

微納米3D打印系統(tǒng)基于新型的面投影微光刻技術(shù)原理設(shè)計(jì)而成,，能實(shí)現(xiàn)多材料的微納尺度材料三維打印,。普陀區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)

NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級(jí)精確對(duì)準(zhǔn),。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時(shí)兼顧打印速度,，適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面,。整個(gè)打印過程在最高速度掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)制激光功率,。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無(wú)需切片步驟,，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無(wú)瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀,。普陀區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)