為了探索待測物微納米表面形貌,，探針掃描成像技術一直是理論研究和實驗項目。然而,，由于掃描探針受限于傳統加工工藝,，在組成材料和幾何構造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能,。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統,，雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印有效的技術,，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。無掩膜光刻技術以其高精度、高效率,、低成本,、高靈活性和廣泛的應用范圍等優(yōu)勢特點。天津高分辨率無掩膜光刻激光直寫

借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統,。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造,。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機,。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合，適合用于納米,、微米,、中尺度以及厘米級別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統可適用于科研和工業(yè)領域應用,。我們的客戶成功將微納光學結構直接打印到光子組件上從而實現從邊緣到表面的全方面耦合,。湖北高分辨率無掩膜光刻微納光刻無掩膜光刻技術是一種先進的微納加工技術。

作為微納加工和3D打印領域的帶領者,，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,，諸如力學超材料，微納機器人,，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動,，并完善了亞太地區(qū)客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰,，結構分類上更明確,。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫,，公司資訊和技術支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示：“中文網站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,，我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,，更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業(yè)方面的應用,。”

借助Nanoscribe的3D微納加工技術,，您可以實現亞細胞結構的三維成像,，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長,、遷移和干細胞分化,。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創(chuàng)手術的生物醫(yī)學儀器,，包括植入物,，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結構在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結構上,，可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。支持多種材料：無掩膜光刻技術不僅限于特定的材料,，還可以應用于各種不同的材料為制造帶來了更大的靈活性,。

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術的打印機競爭，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案,；LithoProf3D,，一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進微型激光光刻3D打印機，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機Altraspin,。作為市場上的新選擇之一,，QuantumXshape承諾采用“非常先進的微加工工藝”，可實現高精度增材制造,，在其中可以比較好平衡精度和速度,，以實現特別高水平的生產力和質量。Nanoscribe認為該打印機能夠產生“非常出色的輸出”,，該打印機依賴于基于移動鏡技術的振鏡(Galvo)系統和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統控制單元,，并結合了行業(yè)-級脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件,，并且對第三方或定制材料開放,。此外,，它可以通過設備的集成觸摸屏和遠程訪問軟件nanoConnectX進行控制，允許遠程控制連接打印機的打印作業(yè),，將實驗室的準備時間減少到限度低值,，并在共享系統時簡化團隊協作。無掩膜光刻在生活中的應用,。河南雙光子聚合無掩膜光刻三維微納米加工系統

無掩膜光刻技術助力創(chuàng)新,。天津高分辨率無掩膜光刻激光直寫

Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計,。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作,。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭,。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場,，以匹配光子芯片上光波導模式場,。天津高分辨率無掩膜光刻激光直寫