借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī),。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米,、微米,、中尺度以及厘米級別的快速成型,。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用。我們的客戶成功將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合,。無掩膜光刻技術(shù)以其高精度,、高效率、低成本,、高靈活性和廣泛的應(yīng)用范圍等優(yōu)勢特點,。海南Nanoscribe無掩膜光刻微納光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,，實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施,。湖南雙光子聚合無掩膜光刻3D打印由于沒有物理掩膜,，無掩膜光刻技術(shù)可以快速地制造出大量的芯片，提高了生產(chǎn)效率,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,，包括玻璃,，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點,，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計,。無掩膜光刻在生活中應(yīng)用。

雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計自由度的增材制造方法,。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先,，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打?。黄浯沃谱鞲哌_(dá)50毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu),，適用于中尺度打印,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率,。QuantumXshape帶有獨特的自動界面查找功能，可以以低至30納米的精度檢測基板表面,。這種在比較高掃描速度下的納米級精度體現(xiàn),，再加上自校準(zhǔn)程序，可在特別短的時間內(nèi)實現(xiàn)可靠和準(zhǔn)確的打印,，為3D微納加工樹立了新榜樣,。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應(yīng)用于微納光學(xué)、微流體、材料表面工程,、MEMS等其他領(lǐng)域中晶圓級規(guī)模生產(chǎn)的理想工具,。以及生物醫(yī)學(xué)研究，如制造微小的生物樣本等,。湖南雙光子聚合無掩膜光刻3D打印

無掩膜光刻技術(shù)被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片的制造過程中,，它可以將微小的電路和組件刻畫在硅片上。海南Nanoscribe無掩膜光刻微納光刻

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。歡迎咨詢,。海南Nanoscribe無掩膜光刻微納光刻