Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX，Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內的直徑只為mm,。灰度光刻技術是一種非接觸,、高精度的光刻技術,，具有較高的靈活性和自由度。天津德國灰度光刻系統(tǒng)

光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,，PIC)與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器,、電光調制器,、光電探測器、光衰減器,、光復用/解復用器以及光放大器等,。集成光子學可較廣地應用于各種領域，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等,。而光子集成電路這項關鍵技術，尤其是微型光子組件應用,，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性，需要權衡對準,、效率和寬帶方面的種種要求,。針對這些困難，科學家們提出了寬帶光纖耦合概念，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn),。上海2PP灰度光刻無掩膜激光直寫了解雙光子灰度光刻敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,，并可達到光學質量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構,、自由設計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇,。

近年來,，實現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結構在包括微機電（MEMS）、微納光學及微流控研究領域內備受關注,，良好的線性側壁灰度結構可以很大程度上提高維納器件的靜電力學特性,，信號通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結構的傳統(tǒng)手段,，如超快激光刻蝕工藝,、電化學腐蝕或反應離子刻蝕等，灰度直寫圖形曝光結合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結構,。該方法中,，利用微鏡矩陣（DMD）開合控制的激光灰度直寫曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設計等特點,，不需要特定的灰度色調掩膜版,，結合軟件的圖形化設計可以直觀地獲得灰度結構?；叶裙饪碳夹g自動化程度較高,，可以減少人工干預，提高生產(chǎn)效率,。

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術,。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學互連,。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征,，確保對3D打印進行高度精確的對準,。Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具,，可用于定義對準3D打印的打印項目,。樹狀數(shù)據(jù)結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織，用于定義何時,、何地,、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征,，例如芯片邊緣和光纖表面,。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記,，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配,。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標配。與傳統(tǒng)的光刻技術相比,，灰度光刻在制造復雜芯片時具有明顯的優(yōu)勢,。黑龍江2PP灰度光刻3D打印

靈活性高：由于無需制作實體掩膜版,，無掩膜光刻技術可以快速地更改光刻圖案,，方便進行試制和修改。天津德國灰度光刻系統(tǒng)

雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),，并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件(DOEs)，可以直接作為衍射光學元件(DOEs),，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。.結合用戶友好的工作流程和自動匹配校準程序,，只需幾個步驟就能實現(xiàn)完:美的具有亞微米形狀精度的結構打印,，適用于廣泛的應用場景和公共平臺用戶的理想選擇天津德國灰度光刻系統(tǒng)