Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,，激光固化部分液態(tài)光敏材料,，逐層固化。使用雙光子聚合,，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米,。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,，通常為160納米至毫米范圍,。此外，使用GT2,，用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,，基板，材料和自動(dòng)化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個(gè)元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求,。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理。 Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),。重慶實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe微流道

Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。  北京高分辨率Nanoscribe生物醫(yī)學(xué)Nanoscribe的3D打印設(shè)備可以制造出針對生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域不同應(yīng)用的復(fù)雜3D設(shè)計(jì),。

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(shù)(2PP) ,，發(fā)明了GRIN 光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝,，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15?μm 直徑）,。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨(dú)特的聚光特性,。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時(shí),，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上,。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測,，確保打印精細(xì)對準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖,，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對準(zhǔn),。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次,，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級別,、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術(shù),，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍,。Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人等,。

Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。 更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢,，歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技.北京高精度Nanoscribe微納光刻

更多有關(guān)3D微納加工的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。重慶實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe微流道

   對于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先,，他們設(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)重慶實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe微流道