上??颇偷献灾餮邪l(fā)生產(chǎn)的一款新型電動(dòng)執(zhí)行器助力企業(yè)實(shí)現(xiàn)智能化
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Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義??偠灾?,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué)、材料工程,、微流體,、微納光學(xué)、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等) Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備具有極大設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn),??蒲蠳anoscribe無掩膜激光直寫
Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,,例如用光敏聚合物,,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,,并可以選擇添加金屬涂層,。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí),。由于需要多次光刻,,刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高,。 科研NanoscribePPGTNanoscribe的3D打印設(shè)備具有高度靈活性和可定制性,,能夠滿足不同行業(yè)的需求。
Nanoscribe稱,,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,,以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。
IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,微光學(xué)元件,,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457?mm,。 更多有關(guān)3D打印的咨詢,歡迎致電納糯三維,。
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL ®)系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。 更多有關(guān)3D微納加工技術(shù)和產(chǎn)品咨詢,歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司,。湖北雙光子Nanoscribe工藝
研究人員利用Nanoscribe公司的3D光刻技術(shù)將光學(xué)引線鍵合到芯片上,,有效地將各種光子集成平臺(tái)連接起來??蒲蠳anoscribe無掩膜激光直寫
3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計(jì)來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,,可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,,機(jī)械,生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說,在納米級(jí),、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上,,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。
科研Nanoscribe無掩膜激光直寫