作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料,，微納機器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍,。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰,，結(jié)構(gòu)分類上更明確,。首頁導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫,，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。 Nanoscribe是一家**的增材制造技術(shù)公司,，專注于高精度的微納米級3D打印技術(shù)。重慶高精度Nanoscribe微流道

   對于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn),。首先，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印,。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點,。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對可能傾斜的基材表面的補償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。

江蘇微納光刻NanoscribeMEMSNanoscribe技術(shù)在微納加工,、生物醫(yī)學(xué)和光學(xué)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,。

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,，比如激光器、電光調(diào)制器,、光電探測器,、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。

光學(xué)元件如何對準(zhǔn)并打印到光子芯片上,？打印對象的 3D 對準(zhǔn)技術(shù)是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元,。 為了精確對準(zhǔn)光子芯片上的光學(xué)元件，智能軟件算法會自動識別預(yù)定義的標(biāo)記和拓撲特征,，以確定芯片上波導(dǎo)的確切位置和方向,。 然后將虛擬坐標(biāo)系設(shè)置到波導(dǎo)的出口，使其光軸和方向完美對準(zhǔn),。 根據(jù)該坐標(biāo)系打印的光學(xué)元件可確保好的光學(xué)質(zhì)量并比較大限度地減少耦合損耗,。 該項技術(shù)可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實現(xiàn)高效的光耦合 。 詳情咨詢納糯三維科技（上海）有限公司微納機械系統(tǒng),，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。

   Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中，激光固化部分流體光敏材料,，逐層固化,。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米,。另一方面,，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體,，通常為160納米至毫米范圍,。此外，使用GT2,，用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,，基板，材料和自動化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求這項技術(shù)具有快速,、精確和可定制的特點,。湖南高精度Nanoscribe系統(tǒng)

Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統(tǒng)制作的微流控元件可以完全嵌入進預(yù)制的二維微流道系統(tǒng)。重慶高精度Nanoscribe微流道

   全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡,、微透鏡陣列和多級衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來,。QuantumX提供了完全的設(shè)計自由度,、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度,?？焖佟?zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計迭代周期,，實現(xiàn)了低成本的微納加工,。憑借著獨有的產(chǎn)品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創(chuàng)新獎。

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