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Nanoscribe獨有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度，實現(xiàn)自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上,。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測,，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構(gòu)圖,，實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準,。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次,，即可實現(xiàn)具有光學級別,、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時,，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統(tǒng),。2GL®作為市場上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下,，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。北京科研NanoscribePhotonic Professional GT歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

   Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中,，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化,。使用雙光子聚合,，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體,，通常為160納米至毫米范圍。此外,，使用GT2,，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板,，材料和自動化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求

3D微納加工技術(shù)應用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實現(xiàn)具有特定光子,，機械，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。

現(xiàn)在Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,，超過1500名用戶,。

基于雙光子聚合（2PP）原理的雙光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技術(shù)，具備體素動態(tài)控制能力,。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時,，調(diào)制曝光劑量會改變光敏樹脂內(nèi)的體素大小，從而實現(xiàn)對聚合體素尺寸的精細可控變化,。這是激光功率調(diào)制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運動同步的結(jié)果,。為此，將灰度圖像轉(zhuǎn)換為曝光級別的空間變化,，從而在一個平面上打印不同的體素高度,。 2GL有什么優(yōu)勢？ 雙光子灰度光刻 技術(shù)（2GL®）使用激光束調(diào)制和高速振鏡的高頻同步進行單體素調(diào)節(jié),，從而實現(xiàn)光學質(zhì)量表面結(jié)構(gòu),。通過高精度定位單元和自校準程序，可在拼接相鄰打印區(qū)域時以出色準確性進行打印,，以制造大型結(jié)構(gòu),。2GL動態(tài)調(diào)整打印場邊界處的激光劑量，以補償光敏聚合物的化學誘導收縮和定位缺陷,。通過這種功能組合,，可以在幾平方厘米的區(qū)域內(nèi)打印出真正的無縫結(jié)構(gòu),，消除所有拼接痕跡,。Nanoscribe技術(shù)是一種高精度的三維打印技術(shù)。北京科研NanoscribePhotonic Professional GT

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