高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質(zhì)量的特點，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。另外,，Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。歡迎咨詢無掩膜光刻技術可大幅提高芯片制造效率。Nanoscribe無掩膜光刻激光直寫

科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作,。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭,。這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場,，以匹配光子芯片上光波導模式場,。Nanoscribe的2PP技術將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。德國德國無掩膜光刻技術靈活性高：由于無需制作實體掩膜版,，無掩膜光刻技術可以快速地更改光刻圖案,，方便進行試制和修改。

事實上,，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的,，其先驅(qū)者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作，這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子,，其加工分辨率達到了120nm,，超越了衍射極限，同時還沒有使用諸如近場加工之類的不太通用的解決方案,，而是單純的利用了材料的性質(zhì),。

作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微細加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體,?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術而感到自豪，憑借我們的技術支持,，我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法,。我們是一家充滿活力,、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優(yōu)于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示,?；?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為前列科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,，并推動生物打印,、微流體、微納光學,、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展無掩膜光刻認準納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝,，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。而Nanoscribe公司基于雙光子聚合原理的無掩模光刻系統(tǒng)設計自由度高,，輕松實現(xiàn)收集光束傳輸?shù)讲▽е?。Nanoscribe無掩膜光刻激光直寫

無掩膜光刻系統(tǒng)可以實現(xiàn)非常高的加工精度和分辨率，適用于微米和納米級別的加工要求,。Nanoscribe無掩膜光刻激光直寫

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,?？偠灾?，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。Nanoscribe無掩膜光刻激光直寫