Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān),，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化。易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化：無掩膜光刻技術(shù)自動(dòng)化程度較高,，可以減少人工干預(yù),，提高生產(chǎn)效率。湖南德國(guó)無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

售后支持和服務(wù)擁有超過14年的微加工技術(shù)經(jīng)驗(yàn),，我們的技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)努力在短的時(shí)間內(nèi)為客戶提供好的支持,。在德國(guó)總部，中國(guó)分公司和美國(guó)分公司,，以及通過Nanoscribe認(rèn)證的經(jīng)銷商提供的銷售服務(wù)和技術(shù)支持,。我們的跨學(xué)科和多語言技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)為客戶提供各方面的支持:裝機(jī)、維護(hù)和維修現(xiàn)場(chǎng)和線上的培訓(xùn)課程通過NanoGuide綜合自助服務(wù)平臺(tái)自助查詢電話,、電子郵件和設(shè)備自帶遠(yuǎn)程支持功能基礎(chǔ)操作技巧之外的高階技術(shù)和應(yīng)用支持延長(zhǎng)維修保修合同,、升級(jí)服務(wù),、移機(jī)服務(wù)湖南德國(guó)無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)它還可以用于制造微納米級(jí)別的結(jié)構(gòu)，如MEMS（微電子機(jī)械系統(tǒng)）和納米線等,。

Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專業(yè)人才，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司,。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)于主導(dǎo)地位,，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求,。

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細(xì)加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者,，Nanoscribe在全球30多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的2PP技術(shù)而感到自豪,，憑借我們的技術(shù)支持，我們的客戶實(shí)現(xiàn)了一個(gè)又一個(gè)突破性創(chuàng)新想法,。我們是一家充滿活力,、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場(chǎng)地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官M(fèi)artinHermatschweiler表示,?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)，Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,，并推動(dòng)生物打印,、微流體、微納光學(xué),、微機(jī)械,、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團(tuán)，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機(jī)遇”MartinHermatschweiler說道,。由于沒有物理掩膜,，無掩膜光刻技術(shù)可以快速地制造出大量的芯片，提高了生產(chǎn)效率,。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,，可實(shí)現(xiàn)通過簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái),。我們的無掩膜光刻寫服務(wù)能夠滿足您對(duì)圖案精度的嚴(yán)格要求,。湖南德國(guó)無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe 的Quantum X 無掩模光刻系統(tǒng)在多個(gè)領(lǐng)域運(yùn)用較廣。湖南德國(guó)無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外,，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,，同時(shí)保持高精度的形狀控制,。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué),、MEMS,、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,，同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實(shí)用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置,，實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。湖南德國(guó)無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)