Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向導,，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像,。例如,，可接受高達32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造,。在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行,，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產生簡單和復雜的光學形狀,，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟,，以及本質上為準連續(xù)的形貌，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。

越來越多的藝術家、設計師參與到3D打印技術的應用中,。普陀區(qū)芯片上微納3D打印銷售廠家

光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要,。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題,。該技術不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路,，光纖頂端和預制晶片等,。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構,。 嘉定區(qū)生物微納3D打印哪家好微納尺度3D打印能批量復制微小結構，制造出真正處于微觀級別的器件,，實現了一般3D打印無法企及的精度,。

Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開,，在微流控研究中,，通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結合不同制造方法,。亞琛工業(yè)大學（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學研究的驅動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架,，以推動細胞培養(yǎng)和組織工程學,。丹麥技術大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就，并強調了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性,。在微納光學和光子學研究中,，布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案。阿卜杜拉國王科技大學的研究團隊3D打印了一個超小型單纖光鑷,，以實現集成微納光學系統(tǒng),。連接處理是光子集成研究的挑戰(zhàn)。正如明斯特大學（WWU）研究人員所示,，Nanoscribe微納加工技術正在驅動研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法,。麻省理工學院（MIT）的科學家們正在使用Nanoscribe的2PP技術制造用于高密度集成光子學的光學自由形式耦合器。  

光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要,。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷,，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構,，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等,。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構,。  更多關于Nanoscribe微納米3D打印設備的信息，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm,。 基于微納尺度的3D打印技術，可定制設計光學性能優(yōu)異,、超高精度,、超薄尺度的透鏡。徐匯區(qū)雙光子微納3D打印廠家

早期的Photonic Professional GT微納3D打印設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具,。普陀區(qū)芯片上微納3D打印銷售廠家

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序,，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用,。2GL與這些批量生產流水線工業(yè)程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現一氣呵成的制作,，即一步打印多級衍射光學元件,，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。 普陀區(qū)芯片上微納3D打印銷售廠家