在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行,，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產(chǎn)生簡單和復雜的光學形狀,，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,，以及本質上為準連續(xù)的形貌,，可以在一個步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。QuantumX支持多種類型襯底,，包括透明和不透明的襯底，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓,。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機,，允許高縱橫比，支持高結構,，無需掩模,、旋涂和預烘烤或后烘烤。與傳統(tǒng)的光刻技術相比,，灰度光刻在制造復雜芯片時具有明顯的優(yōu)勢,。上海雙光子灰度光刻3D光刻

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的子公司，開發(fā)并提供用于納米,、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案,。其口號是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術,，對智能手機,、手持設備和醫(yī)療技術領域至關重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機投入市場,，他們已經(jīng)為全球的大學和新興行業(yè)提供了新的解決方案,，致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學，甚至利用他們的技術來開發(fā)創(chuàng)新的設備,，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸,。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性,，我們的客戶正在微加工的前沿工作,。“納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收,，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程,。山東2PP灰度光刻無掩光刻灰度光刻選擇納糯三維科技（上海）有限公司,。

雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。該技術還可以與雙光子聚合技術結合,，實現(xiàn)高速打印高設計自由度和超高精度的特點,進一步擴展了其應用范圍。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作,，并通過納米壓印技術進行復制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示,，八邊金字塔結構）Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術的發(fā)展現(xiàn)狀,。廣東2PP灰度光刻3D光刻

灰度光刻技術可提高光刻膠的分辨率。上海雙光子灰度光刻3D光刻

Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等。上海雙光子灰度光刻3D光刻