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北京微納NanoscribeQX

來源： 發(fā)布時間：2024-08-21

基于雙光子聚合（2PP）原理的雙光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技術，具備體素動態(tài)控制能力。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時,，調制曝光劑量會改變光敏樹脂內的體素大小，從而實現對聚合體素尺寸的精細可控變化,。這是激光功率調制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運動同步的結果。為此,，將灰度圖像轉換為曝光級別的空間變化,，從而在一個平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優(yōu)勢,？ 雙光子灰度光刻 技術（2GL®）使用激光束調制和高速振鏡的高頻同步進行單體素調節(jié),，從而實現光學質量表面結構。通過高精度定位單元和自校準程序,，可在拼接相鄰打印區(qū)域時以出色準確性進行打印,，以制造大型結構。2GL動態(tài)調整打印場邊界處的激光劑量,，以補償光敏聚合物的化學誘導收縮和定位缺陷,。通過這種功能組合，可以在幾平方厘米的區(qū)域內打印出真正的無縫結構,，消除所有拼接痕跡,。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術,，實現微流道母版制造和密閉通道系統(tǒng)內部的芯片內直接打印,。北京微納NanoscribeQX

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德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發(fā)商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分,，推出了一款新型高精度3D 打印機,，用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱,，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產品線,，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學,、材料工程,、微流體、微光學,、微機械和微機電系統(tǒng) (MEMS) 應用的精度,、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構,，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度,。Nanoscribe的聯合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準,?！半m然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產,?！?/strong>

湖南微納Nanoscribe技術更多有關微納3D打印產品和技術咨詢，歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司,。

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝,，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。 

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術,。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上,，例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征,，確保對3D打印進行高度精確的對準,。 Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具,，可用于定義對準3D打印的打印項目,。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織，用于定義何時,、何地,、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面,。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配,。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標配,。更多有關3D微納加工的咨詢。

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科學家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(2PP) ,，發(fā)明了GRIN 光學微納制造工藝,。這種新的制造技術實現了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學元件。憑借這種全新的制造工藝,，科學家們完成了令人印象深刻的展示制作,，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15?μm 直徑）。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,，使其具有獨特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫,，而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調節(jié)范圍甚至超過0.3,。


使用Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統(tǒng)制作的微流控元件可以完全嵌入進預制的二維微流道系統(tǒng),。湖南德國Nanoscribe中國

Nanoscribe秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景，已然成為微納米生產領域的領導企業(yè),。北京微納NanoscribeQX

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭 北京微納NanoscribeQX