德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發(fā)商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分,，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細結構,。據該公司稱,，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”,。它有望顯著提高生命科學,、材料工程、微流體,、微光學,、微機械和微機電系統(tǒng) (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性,?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構,，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準,。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產,。”

更多有關3D打印的咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。四川科研Nanoscribe生物醫(yī)學

作為微納加工和3D打印領域的帶領者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料,，微納機器人,，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區(qū)客戶服務范圍,。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰,，結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息,，產品應用數據庫,，公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求,。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示：“中文網站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,，我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業(yè)方面的應用

四川2GLNanoscribe3D微納加工這項技術具有快速,、精確和可定制的特點,。

雙光子聚合（2PP）是一種可實現比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能：首先,，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制,，適用于納米和微米級打印,；其次制作高達 50 毫米的目標結構,，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實現出色形狀精度和高精度制作,。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。Quantum X  shape具有先進的激光焦點軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,，并以 1 MHz 調制速率動態(tài)調整激光功率

Nanoscribe雙光子光刻技術實現在光子芯表面進行打印 。光子芯片上的光學元件的精確對準,，例如作為光子封裝的光學互連,，是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現的。在nanoPrintX軟件中,，您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業(yè)中,，打印系統(tǒng)會檢測標記并將其與打印作業(yè)進行匹配，以確定光子芯片波導的確切位置和方向,。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實現微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗,，通過自由空間微光學耦合（FSMOC）實現高效的光耦合,，成為光子封裝的強大解決方案?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術開創(chuàng)了一種全新的微流控微納加工方法,。

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上,，例如用于光子封裝中的光學互連,。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準,。 Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX,，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目,。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織,，用于定義何時、何地,、以及如何進行打印,。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面,。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配,。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標配,。Nanoscribe的3D打印設備具有高度靈活性和可定制性,，能夠滿足不同行業(yè)的需求,。四川微納米Nanoscribe系統(tǒng)

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Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,，如球面和非球面透鏡。  四川科研Nanoscribe生物醫(yī)學