3D微納加工技術應用于材料工程領域,。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現具有特定光子,，機械,，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,，在納米級,、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版,。 Nanoscribe的2PP技術可用于構造包含不同規(guī)模結構的聚合物母版,。江蘇工業(yè)級NanoscribePhotonic Professional GT

Nanoscribe的技術在多個領域都有廣泛應用。在光子學領域,，它可以制造光子晶體,、超穎材料、激光分布回饋術(DFB Lasers)等,。在微光學領域,，它可以制造微光學器件和整合型光學。在微流道技術領域,，它可以應用于生醫(yī)芯片系統(tǒng),、物質研究開發(fā)與分析以及三維基礎結構等方面。在生命科學領域,，Nanoscribe的技術可以應用于細胞外數組結構,、干細胞分離術、細胞成長研究,、細胞遷移研究以及組織工程等方面,。此外，Nanoscribe的技術還可以制造游泳microbots,，用于精確高效地將藥物送至身體的目標區(qū)域,，以及制作極小的手術工具，用于顯微外科手術,。

江蘇工業(yè)級NanoscribePhotonic Professional GT多組柱狀體3D復雜微結構支架是用Nanoscribe自行研發(fā)的IP-Dip光刻膠進行3D打印,。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡,。   

Nanoscribe設備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具,。在該過程中,，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化,。使用雙光子聚合,，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,，GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產具有亞微米細節(jié)的物體,，通常為160納米至毫米范圍。此外,，使用GT2,，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板,，材料和自動化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理,。 歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭       更多有關3D雙光子無掩模光刻技術和產品咨詢,，歡迎聯系Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。湖北超高速NanoscribeMEMS

Nanoscribe的3D微納打印設備速度很快，在短時間內即可以實現在樣品上打印數百個微透鏡,。江蘇工業(yè)級NanoscribePhotonic Professional GT

3D微納加工技術應用于材料工程領域,。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實現具有特定光子,，機械，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結構上,，可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。

江蘇工業(yè)級NanoscribePhotonic Professional GT