上??颇偷献灾餮邪l(fā)生產(chǎn)的一款新型電動(dòng)執(zhí)行器助力企業(yè)實(shí)現(xiàn)智能化
電動(dòng)執(zhí)行器:實(shí)現(xiàn)智能控制的新一代動(dòng)力裝置
電動(dòng)放料閥:化工行業(yè)的新星,提升生產(chǎn)效率與安全性的利器
創(chuàng)新電動(dòng)執(zhí)行器助力工業(yè)自動(dòng)化,,實(shí)現(xiàn)高效生產(chǎn)
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德國(guó)公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,,也是BICO集團(tuán)(前身為Cellin)的一部分,,推出了一款新型高精度3D打印機(jī),用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu),。據(jù)該公司稱,,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué),、材料工程,、微流體、微光學(xué),、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度,、輸出和可用性?;陔p光子聚合(2PP),,一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),,在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn),?!半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn),?!毕胍私鉄o掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。上海超高速無掩膜光刻三維光刻
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,,以及比較廣的材料-基板選擇,。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中,超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力特別好的證明,。湖南高分辨率無掩膜光刻3D打印Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印機(jī),。
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,微光學(xué)元件,,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),,很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),,非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。無掩膜光刻技術(shù)被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片的制造過程中,它可以將微小的電路和組件刻畫在硅片上,。
雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動(dòng):《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,,這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作,這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子,,其加工分辨率達(dá)到了120nm,,超越了衍射極限,同時(shí)還沒有使用諸如近場(chǎng)加工之類的解決方案,,而是單純的利用了材料的性質(zhì),。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)已經(jīng)運(yùn)用在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中。北京2PP無掩膜光刻3D光刻
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QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,,可實(shí)現(xiàn)通過簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,,即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,,以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量??偠灾?,工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,適用于晶圓級(jí)批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái),。上海超高速無掩膜光刻三維光刻