如何能夠利用微納尺寸的旋轉(zhuǎn)軸和鉸鏈改進(jìn)傳感器并為新的傳感器設(shè)計概念鋪平道路,？這正是位于代頓（俄亥俄州）的美國空軍技術(shù)學(xué)院的科研人員們通過在光纖上打印具有可活動部件的微型3D傳感器所聚焦的課題,。內(nèi)置的鉸鏈和微軸給傳感器設(shè)計帶來的新的設(shè)計理念，例如用于流量傳感的微轉(zhuǎn)子,，可通過物***相沉積法來進(jìn)入以往不易觸及的區(qū)域的微型傳感器,。光纖上3D打印的流量傳感器（渲染動畫）：轉(zhuǎn)子被安裝在光纖端面的一個偏心軸上，傳感器的信號由通過光纖芯的反射光產(chǎn)生,，以實現(xiàn)流量傳感的應(yīng)用,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手。超高速無掩膜光刻無掩光刻

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī),。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米,、微米,、中尺度以及厘米級別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用。我們的客戶成功將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合,。湖南雙光子無掩膜光刻無掩光刻想要了解雙光子無掩模光刻技術(shù)在微納醫(yī)學(xué)中的應(yīng)用,，請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,，實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。

售后支持和服務(wù)擁有超過14年的微加工技術(shù)經(jīng)驗,，我們的技術(shù)支持團(tuán)隊努力在短的時間內(nèi)為客戶提供好的支持,。在德國總部，中國分公司和美國分公司,，以及通過Nanoscribe認(rèn)證的經(jīng)銷商提供的銷售服務(wù)和技術(shù)支持,。我們的跨學(xué)科和多語言技術(shù)支持團(tuán)隊為客戶提供各方面的支持:裝機(jī)、維護(hù)和維修現(xiàn)場和線上的培訓(xùn)課程通過NanoGuide綜合自助服務(wù)平臺自助查詢電話,、電子郵件和設(shè)備自帶遠(yuǎn)程支持功能基礎(chǔ)操作技巧之外的高階技術(shù)和應(yīng)用支持延長維修保修合同,、升級服務(wù)、移機(jī)服務(wù)Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印機(jī),。

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實現(xiàn)具有特定光子,，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。無掩膜光刻技術(shù)也適用于制造精細(xì)的電子元件和結(jié)構(gòu),。重慶雙光子聚合無掩膜光刻微納光刻

無掩膜光刻技術(shù)被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片的制造過程中,，它可以將微小的電路和組件刻畫在硅片上。超高速無掩膜光刻無掩光刻

集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權(quán)衡對準(zhǔn),、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難,，科學(xué)家們提出了寬帶光纖耦合概念,，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn)。超高速無掩膜光刻無掩光刻