Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。想要了解3D打印的特點和作用，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司,。嘉定區(qū)灰度光刻微納3D打印公司

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,，適合用于納米,、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型,。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用,。我們的客戶成功將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合。松江區(qū)科研微納3D打印服務(wù)商長遠來看,，微納3D打印會顛覆傳統(tǒng)制造,，實現(xiàn)服務(wù)的規(guī)模化,，屬于產(chǎn)業(yè)顛覆,。

Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件（如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率,，高色散和低阿貝數(shù)的特性，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要,，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下,。由于在紅外區(qū)域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,，同時也是光通訊,、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計,，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個新的高度。由于其光學(xué)特性,，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,，例如光電應(yīng)用中，他們可以增加顯示設(shè)備,、相機或投影儀鏡頭的視覺特性,。此外，這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件,。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng),，內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。

為了進一步提升技術(shù)先進性,，科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,，高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度,。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域,。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,，成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān),，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化?，F(xiàn)階段,，3D打印是傳統(tǒng)制造的重要補充,，屬于產(chǎn)業(yè)增強。

Nanoscribe公司成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄,，秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,，一直致力于推動諸如力學(xué)超材料，微納機器人,，再生醫(yī)學(xué)工程,，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。如今,，Nanoscribe客戶遍布全球30個國家，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng),。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué),、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué),、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等,。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務(wù)范圍，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。自Nanoscribe進軍中國市場以來,，已有20多家出名大學(xué)和研究所成為了Nanoscribe用戶，其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員,，例如：北京大學(xué),，復(fù)旦大學(xué)，南京大學(xué)等等,。2PP被認(rèn)為是一個相當(dāng)精確的3D打印來創(chuàng)建復(fù)雜的結(jié)構(gòu)工藝,。上海微納3D打印廠家

特別常見的微納3D打印方法是增材制造。嘉定區(qū)灰度光刻微納3D打印公司

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,。“我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術(shù)而感到自豪,，憑借我們的技術(shù)支持,，我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力,、屢獲殊榮的公司,，與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示,。基于2PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識,，Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持,，并推動生物打印、微流體,、微納光學(xué),、微機械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展,?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道,。嘉定區(qū)灰度光刻微納3D打印公司