在當(dāng)前科技快速發(fā)展的時代，各種新技術(shù)層出不窮,。其中,，雙光子聚合技術(shù)以其獨(dú)特的優(yōu)勢和應(yīng)用前景，正在引起越來越多的關(guān)注,。雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程,，它有著更多的應(yīng)用前景，包括快速3D打印,、光子晶體形成,、高精度光子器件制造等領(lǐng)域。雙光子聚合技術(shù)的優(yōu)勢：1. 高精度和高分辨率：雙光子聚合技術(shù)采用光子作為加工單位，具有超高的精度和分辨率,。與傳統(tǒng)的加工技術(shù)相比,，雙光子聚合技術(shù)可以制造出更加精細(xì)、復(fù)雜的結(jié)構(gòu),，從而實(shí)現(xiàn)更高級別的光學(xué)器件和制造工藝,。2. 快速和高效：雙光子聚合技術(shù)可以在短時間內(nèi)完成大量材料的加工和制備。由于其高精度和高分辨率的特點(diǎn),，使得制造過程更加快速和高效,。這不僅縮短了產(chǎn)品的研發(fā)周期，還能滿足工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的需求,。3. 高度靈活性和可擴(kuò)展性：雙光子聚合技術(shù)具有高度靈活性和可擴(kuò)展性,，可以在不同材料和表面上應(yīng)用,。這種技術(shù)不僅可以用于玻璃,、塑料等常見材料的加工，還可以應(yīng)用于半導(dǎo)體,、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,。這意味著雙光子聚合技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域非常多，可以為不同行業(yè)提供定制化的解決方案,。Photonic Professional GT2設(shè)備是將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,。德國3D打印雙光子聚合無掩光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。浙江TPP雙光子聚合3D打印雙光子聚合激光直寫技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)亞微米級別的加工精度,，比傳統(tǒng)的納米加工技術(shù)更加精細(xì),。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過簡單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,。總而言之，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,，適用于晶圓級批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率,。歡迎咨詢

作為納米、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關(guān)鍵技術(shù),，雙光子聚合技術(shù)(2PP)能在高速打印的同時確保高精度制作,。結(jié)合極高設(shè)計自由度的特點(diǎn)，2PP高精度增材制造推動著未來技術(shù)在例如生命科學(xué),、微流體,、材料工程、微機(jī)械 和MEMS等科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用的發(fā)展,。Nanoscribe作為2PP微納加工市場人物,，將繼續(xù)突破3D微納加工的極限?；谕黄菩噪p光子對準(zhǔn)技術(shù)(A2PL@)的Quantum X平臺系列,，可以實(shí)現(xiàn)在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學(xué)元件，助力光子封裝領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)在所有空間方向的納米級對準(zhǔn)和定位,。此外,，該系統(tǒng)具備的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL @)是制造具備比較高光學(xué)質(zhì)量的2.5D折射和衍射微光學(xué)器件的好的選擇，非接觸式加工：雙光子聚合是一種非接觸式加工技術(shù),，避免了加工過程中的機(jī)械損傷,。

隨著科技的不斷進(jìn)步，雙光子聚合激光直寫技術(shù)正以驚人的速度改變著我們的生活,。這項創(chuàng)新技術(shù)利用雙光子效應(yīng),，通過高能量激光束直接寫入材料表面，實(shí)現(xiàn)了高精度,、高效率的微納加工,。它不僅在微電子、光電子,、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力,，還為我們帶來了無限的想象空間。雙光子聚合激光直寫技術(shù)的突破在于其能夠?qū)崿F(xiàn)超高分辨率的微納加工,。傳統(tǒng)的光刻技術(shù)受限于光的波長,，無法達(dá)到納米級別的加工精度。而雙光子聚合激光直寫技術(shù)則能夠利用兩個光子的能量共同作用，將加工精度提升到亞微米甚至納米級別,。這使得我們能夠制造出更小,、更精細(xì)的微型器件，為微電子行業(yè)帶來了巨大的發(fā)展機(jī)遇,。除了在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用,，雙光子聚合激光直寫技術(shù)還在光電子領(lǐng)域展現(xiàn)出了巨大的潛力。通過控制激光束的強(qiáng)度和聚焦點(diǎn)的位置,，我們可以在光學(xué)材料中實(shí)現(xiàn)三維結(jié)構(gòu)的直接寫入,。這為光學(xué)器件的制造提供了全新的思路，不僅能夠提高器件的性能,，還能夠降低成本,。這對于光通信、光存儲等領(lǐng)域的發(fā)展具有重要意義,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子聚合微納加工系統(tǒng),。湖北雙光子聚合三維光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討什么是雙光子聚合微納加工系統(tǒng)。德國3D打印雙光子聚合無掩光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。

德國3D打印雙光子聚合無掩光刻