Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,，一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過(guò)2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。Nanoscribe憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)于主導(dǎo)地位,，并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來(lái)進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求,。歡迎咨詢想要了解更多雙光子聚合納米3D打印的信息，請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維,。2PP雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

雙光子聚合技術(shù)的應(yīng)用前景：1. 快速3D打?。弘p光子聚合技術(shù)可以用于快速3D打印。通過(guò)這種技術(shù),，可以實(shí)現(xiàn)高精度,、高分辨率的3D打印，從而制造出更加精細(xì),、復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。這使得3D打印技術(shù)可以應(yīng)用于更多領(lǐng)域,，包括航空航天,、醫(yī)療等高精度制造領(lǐng)域。2. 光子晶體形成：雙光子聚合技術(shù)可以用于光子晶體的制備,。光子晶體是一種具有周期性折射率變化的介質(zhì),，可以控制光的傳播路徑。利用雙光子聚合技術(shù),，可以制造出具有復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高質(zhì)量的光子晶體,，為光學(xué)器件和光子芯片的制備提供新的途徑。3. 高精度光子器件制造：雙光子聚合技術(shù)可以用于高精度光子器件的制造,。例如,，利用這種技術(shù)可以制造出高精度的光學(xué)鏡片、光纖等光子器件,。這些器件在通訊,、能源等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。4. 生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用：雙光子聚合技術(shù)還可以應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,。例如,，在生物組織工程中，可以利用這種技術(shù)制造出具有復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高度精確的生物材料,。這些材料可以用于藥物輸送,、組織修復(fù)等方面，為生物醫(yī)學(xué)研究提供新的工具和思路,。上海Nanoscribe雙光子聚合3D光刻N(yùn)anoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器,。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。

在當(dāng)前科技快速發(fā)展的時(shí)代，各種新技術(shù)層出不窮,。其中,，雙光子聚合技術(shù)以其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用前景，正在引起越來(lái)越多的關(guān)注,。雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過(guò)程,，它有著更多的應(yīng)用前景，包括快速3D打印,、光子晶體形成,、高精度光子器件制造等領(lǐng)域。雙光子聚合技術(shù)的優(yōu)勢(shì)：1. 高精度和高分辨率：雙光子聚合技術(shù)采用光子作為加工單位,，具有超高的精度和分辨率,。與傳統(tǒng)的加工技術(shù)相比，雙光子聚合技術(shù)可以制造出更加精細(xì),、復(fù)雜的結(jié)構(gòu),，從而實(shí)現(xiàn)更高級(jí)別的光學(xué)器件和制造工藝。2. 快速和高效：雙光子聚合技術(shù)可以在短時(shí)間內(nèi)完成大量材料的加工和制備,。由于其高精度和高分辨率的特點(diǎn),，使得制造過(guò)程更加快速和高效。這不僅縮短了產(chǎn)品的研發(fā)周期,，還能滿足工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的需求,。3. 高度靈活性和可擴(kuò)展性：雙光子聚合技術(shù)具有高度靈活性和可擴(kuò)展性,，可以在不同材料和表面上應(yīng)用。這種技術(shù)不僅可以用于玻璃,、塑料等常見(jiàn)材料的加工,，還可以應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,。這意味著雙光子聚合技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域非常多,，可以為不同行業(yè)提供定制化的解決方案。更多關(guān)于雙光子聚合技術(shù)的微納加工信息,，請(qǐng)關(guān)注Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維的官網(wǎng),。

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過(guò)3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上,。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè),，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖,，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn),。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次,，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果,。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù),，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍,。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維為您揭曉飛秒激光雙光子聚合微納加工系統(tǒng)及方法,。2PP雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

雙光子聚合利用了雙光子吸收過(guò)程對(duì)材料穿透性好、空間選擇性高的特點(diǎn),。2PP雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

作為納米,、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關(guān)鍵技術(shù)，雙光子聚合技術(shù)(2PP)能在高速打印的同時(shí)確保高精度制作,。結(jié)合極高設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn),，2PP高精度增材制造推動(dòng)著未來(lái)技術(shù)在例如生命科學(xué)、微流體,、材料工程,、微機(jī)械 和MEMS等科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用的發(fā)展。Nanoscribe作為2PP微納加工市場(chǎng)人物,，將繼續(xù)突破3D微納加工的極限,?；谕黄菩噪p光子對(duì)準(zhǔn)技術(shù)(A2PL@)的Quantum X平臺(tái)系列，可以實(shí)現(xiàn)在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學(xué)元件,，助力光子封裝領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)在所有空間方向的納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)和定位,。此外，該系統(tǒng)具備的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL @)是制造具備比較高光學(xué)質(zhì)量的2.5D折射和衍射微光學(xué)器件的好的選擇,，2PP雙光子聚合微納加工系統(tǒng)