科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(shù)(2PP) ,，發(fā)明了GRIN 光學(xué)微納制造工藝,。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件。憑借這種全新的制造工藝,，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15?μm 直徑）。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,，使其具有獨(dú)特的聚光特性,。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率,。Nanoscribe技術(shù)在微納加工、生物醫(yī)學(xué)和光學(xué)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,。廣東德國(guó)Nanoscribe技術(shù)

多年來,，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目,，包括等離子體技術(shù),、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目。如今,，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器,。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年，名為Miliquant,，由德國(guó)聯(lián)邦教育和研究部（簡(jiǎn)稱BMBF）提供資助,。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷,、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn),，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作，還需要開發(fā)可靠的組件,，以及組裝和制造的新方法,。

德國(guó)進(jìn)口NanoscribeQuantum X影響增材制造技術(shù)的因素你了解嗎？歡迎咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度,，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè),，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上,。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn),。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的,。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別,、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果,。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù),，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍,。

   對(duì)于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先,，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ),。

3D自由曲面耦合器利用全內(nèi)反射,，結(jié)合Nanoscribe的3D微加工技術(shù)可直接在光子芯片上進(jìn)行3D打印制作。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器,。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。 使用Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統(tǒng)制作的微流控元件可以完全嵌入進(jìn)預(yù)制的二維微流道系統(tǒng)。實(shí)驗(yàn)室NanoscribeQX

微米級(jí)分辨率,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。廣東德國(guó)Nanoscribe技術(shù)

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴,。我們成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨(dú)子公司，是一個(gè)充滿活力,、屢獲殊榮的公司，并于2021年6月成為BICO集團(tuán)的一部分,。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng),、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案，我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來的應(yīng)用,。Nanoscribe的用戶群體中,，有科學(xué)研究和工業(yè)的創(chuàng)新者，包括生命科學(xué),、微光學(xué),、光子學(xué)、材料工程,、微流體,、微力學(xué)和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現(xiàn)已發(fā)表在1300多份同行評(píng)議期刊上,。廣東德國(guó)Nanoscribe技術(shù)