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進(jìn)口Nanoscribe子公司

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-10-25

Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡,。  增材制造技術(shù)具有高的堅(jiān)固性,穩(wěn)定性,,耐用性,。進(jìn)口Nanoscribe子公司

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德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,也是 BICO集團(tuán)(前身為Cellin)的一部分,,推出了一款新型高精度3D 打印機(jī),,用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱,,新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線,,其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué),、材料工程,、微流體、微光學(xué),、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng) (MEMS) 應(yīng)用的精度,、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP),,一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),,Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,,該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn)?!半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造,,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?!?/strong>

海南實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe上海Nanoscribe技術(shù)在微納加工,、生物醫(yī)學(xué)和光學(xué)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻(2GL®)是一種用于生成2.5D拓?fù)涞男滦驮霾闹圃旒夹g(shù),。通過這種技術(shù),,在掃描一層的情況下,可以打印離散和準(zhǔn)確的步驟以及基本連續(xù)的拓?fù)?,從而縮短了打印時(shí)間,。2GL是無掩膜灰度光刻技術(shù)家族的新成員,其使用功率調(diào)節(jié)激光來塑造微納米結(jié)構(gòu)功能器件的高度輪廓,。雙光子灰度光刻(2GL®)是一項(xiàng)突破性的創(chuàng)新技術(shù),,將灰度光刻的優(yōu)勢(shì)與雙光子聚合(2PP)的精度和靈活性相結(jié)合。光學(xué)元件如何對(duì)準(zhǔn)并打印到光子芯片上,?打印對(duì)象的 3D 對(duì)準(zhǔn)技術(shù)是基于具有高分辨率 3D 拓?fù)淅L制的共聚焦單元,。 為了精確對(duì)準(zhǔn)光子芯片上的光學(xué)元件,智能軟件算法會(huì)自動(dòng)識(shí)別預(yù)定義的標(biāo)記和拓?fù)涮卣?,以確定芯片上波導(dǎo)的確切位置和方向,。 然后將虛擬坐標(biāo)系設(shè)置到波導(dǎo)的出口,使其光軸和方向完美對(duì)準(zhǔn),。 根據(jù)該坐標(biāo)系打印的光學(xué)元件可確保比較好的光學(xué)質(zhì)量并比較大限度地減少耦合損耗,。 該項(xiàng)技術(shù)可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實(shí)現(xiàn)高效的光耦合。

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,,以及普遍的材料-基板選擇,。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國家的前沿研究中,,超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的證明。


增材制造技術(shù)存在多方面的優(yōu)勢(shì),,如需了解請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司,。

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由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),,斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡 增材制造相比傳統(tǒng)減材制造更加的節(jié)省原料,也更加的節(jié)約能源,。德國微納米Nanoscribe

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