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浙江微納光刻NanoscribePPGT2

來源: 發(fā)布時間:2024-10-29

Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡,。  3D自由曲面耦合器利用全內(nèi)反射,結(jié)合Nanoscribe的3D微加工技術(shù)可直接在光子芯片上進行3D打印制作,。浙江微納光刻NanoscribePPGT2

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,,納米顆粒復(fù)合物,,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層,。此外,,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),,并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻,刻蝕和對準(zhǔn)工藝,,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。  四川科研Nanoscribe微納加工系統(tǒng)Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)。

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光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,,PIC) 與電子集成電路類似,,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,,而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,例如數(shù)據(jù)通訊,,激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),尤其是微型光子組件應(yīng)用,,可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,,可以有效提高集成度和功能性,。


Nanoscribe稱,Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達100%的陣列,,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別,請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司,。

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IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,,包括仿生表面,微光學(xué)元件,,機械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457?mm。  更多有關(guān)3D微納加工的咨詢,,歡迎致電Nanoscribe中國分公司,。四川科研Nanoscribe微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe技術(shù)是一種高精度的三維打印技術(shù)。浙江微納光刻NanoscribePPGT2

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,,包括仿生表面,,微光學(xué)元件,機械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),,斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡 浙江微納光刻NanoscribePPGT2