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湖南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻3D光刻

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-11-04

Nanoscribe公司推出針對(duì)微光學(xué)元件(如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件)具有特殊性能的新型打印材料,,IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,,這些特性對(duì)于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計(jì)尤為重要,,尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,,因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,,同時(shí)也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計(jì),并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的高度,。由于其光學(xué)特性,,高折射率聚合物可促進(jìn)許多運(yùn)用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,例如光電應(yīng)用中,,他們可以增加顯示設(shè)備,、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,,這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件,。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng),內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡,。Photonic Professional GT在微納米3D打印,,以及無掩模光刻領(lǐng)域樹立了行業(yè)內(nèi)新的標(biāo)竿。湖南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻3D光刻

湖南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻3D光刻,無掩膜光刻

全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝,。全球較早雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動(dòng)的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來,。QuantumX提供了完全的設(shè)計(jì)自由度、高速的打印效率,、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度,。快速,、準(zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期,,實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工,。憑借著獨(dú)有的產(chǎn)品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會(huì)展(LASERWorldofPhotonics2019)榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。工業(yè)級(jí)無掩膜光刻設(shè)備全新Quantum X shape是Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,。

湖南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻3D光刻,無掩膜光刻

世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),,您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì),。歡迎咨詢,。

Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),,為全球客戶提供整套硬件,軟件,,打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),,為全球客戶提供整套硬件,,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù),。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),,結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),,適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,,如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),,您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip)無掩膜光刻技術(shù)運(yùn)用領(lǐng)域廣,分辨高,,如需了解更多請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

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售后支持和服務(wù)擁有超過14年的微加工技術(shù)經(jīng)驗(yàn),我們的技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)努力在短的時(shí)間內(nèi)為客戶提供好的支持,。在德國總部,,中國分公司和美國分公司,以及通過Nanoscribe認(rèn)證的經(jīng)銷商提供的銷售服務(wù)和技術(shù)支持。我們的跨學(xué)科和多語言技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)為客戶提供各方面的支持:裝機(jī),、維護(hù)和維修現(xiàn)場和線上的培訓(xùn)課程通過NanoGuide綜合自助服務(wù)平臺(tái)自助查詢電話,、電子郵件和設(shè)備自帶遠(yuǎn)程支持功能基礎(chǔ)操作技巧之外的高階技術(shù)和應(yīng)用支持延長維修保修合同、升級(jí)服務(wù),、移機(jī)服務(wù)更多有關(guān)3D雙光子無掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司,。重慶Nanoscribe無掩膜光刻技術(shù)3D打印

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Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM),。文章中介紹了高精度3D打印,并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。湖南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻3D光刻