由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm,。想要了解更多Nanoscribe 3D無掩膜光刻系統(tǒng)信息,，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。湖南無掩膜光刻系統(tǒng)

多年來,，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,，并且參與了很多3D打印的項目，包括等離子體技術(shù),、微光學等工業(yè)微加工相關(guān)項目,。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器,。該團隊的項目為期三年,，名為Miliquant，由德國聯(lián)邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助,。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應用在醫(yī)療診斷,、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中,。研發(fā)團隊將開展多項實驗，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),，這就需要復雜的研發(fā)工作,，還需要開發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法,。河南微納米無掩膜光刻無掩膜光刻技術(shù)的更多信息，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印,。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,，擁有多項專項技術(shù)，為全球客戶提供整套硬件,，軟件,，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,，擁有多項專項技術(shù),，為全球客戶提供整套硬件，軟件,，打印材料和解決方案一站式服務,。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點，結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),，適用于生命科學領(lǐng)域的應用，如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學設(shè)備的原型制作,。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),，您可以實現(xiàn)亞細胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）,。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長,、遷移和干細胞分化。此外,，3D微納加工技術(shù)還可以應用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學儀器,，包括植入物，微針和微孔膜等制作,。

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù),。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同,。Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可以實現(xiàn)微機械元件的制作,。廣東高精度無掩膜光刻3D打印

無掩膜光刻技術(shù)運用領(lǐng)域廣，分辨高,，如需了解更多請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。湖南無掩膜光刻系統(tǒng)

Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點，結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),，適用于生命科學領(lǐng)域的應用，如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學設(shè)備的原型制作,。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,，以及比較廣的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力特別好的證明,。湖南無掩膜光刻系統(tǒng)