雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程,。雙光子吸收是指物質(zhì)的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強激光作用下發(fā)生,，是一種強激光下光與物質(zhì)相互作用的現(xiàn)象,，屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產(chǎn)生的特別強激光的焦點處,，光路上其他地方的激光強度不足以產(chǎn)生雙光子吸收,，而由于所用光波長較長，能量較低,，相應的單光子過程不能發(fā)生,，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性,。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好,、空間選擇性高的特點，在三維微加工,、高密度光儲存及生物醫(yī)療領域有著巨大的應用前景,，近年來已成為全球高新技術(shù)領域的一大研究熱點更多關于雙光子聚合技術(shù)的微納加工信息，請關注Nanoscribe中國分公司-納糯三維的官網(wǎng),。湖北微納米雙光子聚合三維光刻

Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案,。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位,，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求,。歡迎咨詢北京飛秒激光雙光子聚合微納光刻雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好,、空間選擇性高的特點,。

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QuantumXshape技術(shù)特點概要：快速原型制作，高精度,，高設計自由度,，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn),；200個標準結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您了解雙光子光聚合反應及其在周期性微結(jié)構(gòu)方面的應用。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術(shù)強大的設計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施,。

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三維加工能力：這種技術(shù)可以實現(xiàn)三維加工,，能夠制造出具有復雜形狀的納米結(jié)構(gòu),。湖北微納米雙光子聚合三維光刻

對準雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動對準到光纖和光子芯片上,，例如用于光子封裝中的光學互連,。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準,。Nanoscribe對準雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目,。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織,，用于定義何時、何地,、以及如何進行打印,。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面,。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配,。對準雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標配,。湖北微納米雙光子聚合三維光刻