Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi),。通過(guò)調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中,，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān)，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子微納3D打印技術(shù)信息,。山東工業(yè)級(jí)3D打印

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性,，科研人員又在新材料研發(fā)的過(guò)程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面,，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,，高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度。另一方面,，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域,。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來(lái)的研究提供了進(jìn)一步的可能,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）微納米3D打印微納加工系統(tǒng)由于材料利用率高,，減少了廢料產(chǎn)生，使得制造過(guò)程更加環(huán)保和可持續(xù),。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm,。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,。總而言之,，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,，適用于晶圓級(jí)批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái),。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。更多關(guān)于Nanoscribe微納米3D打印的內(nèi)容,，請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe首屆線上用戶大會(huì)于九月順利召開(kāi)，在微流控研究中,，通常在針對(duì)微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì)結(jié)合不同制造方法,。亞琛工業(yè)大學(xué)（RWTHUniversityofAachen）和不來(lái)梅大學(xué)（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結(jié)構(gòu)的芯片結(jié)構(gòu)打印到預(yù)制微納通道中。生命科學(xué)研究的驅(qū)動(dòng)力是三維打印模擬人類細(xì)胞形狀和大小的支架,，以推動(dòng)細(xì)胞培養(yǎng)和組織工程學(xué),。丹麥技術(shù)大學(xué)(DTU)和德國(guó)于利希研究中心的研究團(tuán)隊(duì)展示了他們的成就，并強(qiáng)調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性,。在微納光學(xué)和光子學(xué)研究中,，布魯塞爾自由大學(xué)的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導(dǎo)等解決方案。阿卜杜拉國(guó)王科技大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)3D打印了一個(gè)超小型單纖光鑷,，以實(shí)現(xiàn)集成微納光學(xué)系統(tǒng),。連接處理是光子集成研究的挑戰(zhàn)。正如明斯特大學(xué)（WWU）研究人員所示,，Nanoscribe微納加工技術(shù)正在驅(qū)動(dòng)研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法,。麻省理工學(xué)院（MIT）的科學(xué)家們正在使用Nanoscribe的2PP技術(shù)制造用于高密度集成光子學(xué)的光學(xué)自由形式耦合器。3D打印技術(shù)能夠制造出傳統(tǒng)生產(chǎn)技術(shù)無(wú)法制造的外形,，為設(shè)計(jì)師提供了更大的創(chuàng)新空間,，使得產(chǎn)品設(shè)計(jì)更加優(yōu)化。德國(guó)雙光子3D打印微納加工系統(tǒng)

可以制造出采用傳統(tǒng)方法制造不出來(lái)的,、非常復(fù)雜的制件,，且無(wú)需剔除邊角料，提高了材料的利用率,。山東工業(yè)級(jí)3D打印

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭山東工業(yè)級(jí)3D打印