Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識,，Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,，并推動生物打印、微流體,、微納光學(xué),、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展,?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團(tuán)，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機(jī)遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道,。Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。如需了解更多全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容,，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維。黑龍江2PP灰度光刻無掩膜激光直寫

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實(shí)現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù),，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級,，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,，以及非常普遍的材料-基板選擇,。重慶2GL灰度光刻3D微納加工Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。

Nanoscribe成立于2007年,，憑借著爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持,，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長成為了現(xiàn)在世界公認(rèn)的微納米加工技術(shù)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項(xiàng)國際專項(xiàng)的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2,。全球頭一臺工業(yè)級雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學(xué)府和高科技單位所采用,，例如哈佛大學(xué),，牛津大學(xué)等出名的院校,，華為公司等?？蓱?yīng)用于微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微納光學(xué),，力學(xué)超材料等不同領(lǐng)域,。

Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應(yīng)用。

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該技術(shù)還可以與雙光子聚合技術(shù)結(jié)合,，實(shí)現(xiàn)高速打印高設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn),進(jìn)一步擴(kuò)展了其應(yīng)用范圍,。湖北Nanoscribe灰度光刻3D光刻

通過控制光的幅度和相位，灰度光刻技術(shù)可以制備各種復(fù)雜的微納米結(jié)構(gòu),，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的需求,。黑龍江2PP灰度光刻無掩膜激光直寫

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎,。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域,。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。黑龍江2PP灰度光刻無掩膜激光直寫