科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(shù)(2PP) ，發(fā)明了GRIN 光學(xué)微納制造工藝,。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15?μm 直徑）,。相似于人類眼睛晶狀體的梯度，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,，使其具有獨(dú)特的聚光特性,。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。

Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級別的精確打印，為科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用提供了全新的可能性,。江蘇微納Nanoscribe中國

為了探索待測物微納米表面形貌,，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而,，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進(jìn)展，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能,。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實(shí)現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,，以及普遍的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實(shí)驗(yàn)室。北京微納Nanoscribe中國增材制造技術(shù)存在多方面的優(yōu)勢,，如需了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe稱，Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。 

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性,。

Nanoscribe的3D打印設(shè)備可以制造出針對生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域不同應(yīng)用的復(fù)雜3D設(shè)計。

德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技（上海）有限公司,，加強(qiáng)了德國高新技術(shù)在中國的銷售推廣,。Nanoscribe客戶遍布30個國家，超過1500名用戶,。大學(xué)中已經(jīng)多所正在使用Nanoscribe3D打印機(jī),。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院,、牛津大學(xué),、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等,。在科研領(lǐng)域，Nanoscribe的系列3D打印設(shè)備幫助推動著諸如超材料,，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微納光學(xué),，微流道,，微機(jī)電系統(tǒng)等等領(lǐng)域的研究和發(fā)展。Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術(shù)的發(fā)展,，為客戶提供高質(zhì)量,、高效率的解決方案。德國高精度Nanoscribe上海

Nanoscribe是頭一家將基于該原理的產(chǎn)品系列Nanoscribe Photonic Professional打印系統(tǒng)推向市場的科技公司,。江蘇微納Nanoscribe中國

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。QuantumX的軟件能實(shí)時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_始就指導(dǎo)設(shè)計師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計的灰度圖像,。例如，可接受高達(dá)32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件,，以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行,，以便對每個掃描平面進(jìn)行全體素大小控制。Nanoscribe稱,，QuantumX在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,，以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌,，可以在一個步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。江蘇微納Nanoscribe中國