Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作,，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施,。想要了解無掩膜光刻的特點和用途,，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。上海2PP無掩膜光刻3D光刻

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結(jié)構(gòu)微納光學元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機,。該設備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米,、微米,、中尺度以及厘米級別的快速成型。浙江進口無掩膜光刻PPGTNanoscribe的3D無掩模光刻機已經(jīng)運用在30多個國家的前沿研究中,。

基于低成本和小型化特點的集成光子芯片技術(shù),，該項目有望將光學相干斷層掃描（OCT）從局限的眼科臨床應用帶入更廣的眼科護理移動應用中來。由維也納醫(yī)科大學牽頭的HandheldOCT研究項目旨在運用成熟的光學相干斷層掃描成像技術(shù)（OCT）,，來實現(xiàn)便攜式現(xiàn)場即時眼科護理檢查,。預計此款正在開發(fā)的具備先進技術(shù)和成本效應的便攜式集成光子芯片技術(shù)OCT成像設備將用于診斷和監(jiān)測多種眼部疾病，例如,，老年性黃斑病變,、糖尿病性視網(wǎng)膜病變以及青光眼，這些疾病在世界范圍內(nèi)都是導致失明的主要因素,。該便攜式設備將會在維也納總醫(yī)院進行測試以驗證其在眼科診斷的效果,。

Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料,，微納機器人,，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區(qū)客戶服務范圍,。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰,，結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁導航欄包括了產(chǎn)品信息,，產(chǎn)品應用數(shù)據(jù)庫，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求,。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應用,?！备酂o掩模光刻技術(shù)的相關(guān)信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應用至關(guān)重要,。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質(zhì)量表面不達標的缺陷,，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結(jié)構(gòu),，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等,。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu),。什么是Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng)？請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。浙江進口無掩膜光刻PPGT

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世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質(zhì)量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設計自由度和光學質(zhì)量的特點，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。上海2PP無掩膜光刻3D光刻