Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí),。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。納米尺度結(jié)構(gòu)制造,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。廣東實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe上海

對于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先,，他們設(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印,。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn),。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。廣東實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe上海增材制造相比傳統(tǒng)減材制造更加的節(jié)省原料,，也更加的節(jié)約能源,。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。   

德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技（上海）有限公司，加強(qiáng)了德國高新技術(shù)在中國的銷售推廣,。Nanoscribe客戶遍布30個(gè)國家,，超過1500名用戶。大學(xué)中已經(jīng)多所正在使用Nanoscribe3D打印機(jī),。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué),、加州理工學(xué)院,、牛津大學(xué)、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等,。在科研領(lǐng)域,，Nanoscribe的系列3D打印設(shè)備幫助推動(dòng)著諸如超材料，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程,，微納光學(xué)，微流道,，微機(jī)電系統(tǒng)等等領(lǐng)域的研究和發(fā)展,。Nanoscribe的3D打印設(shè)備可以制造出針對生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域不同應(yīng)用的復(fù)雜3D設(shè)計(jì)。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭       如需了解增材制造的信息,，請咨詢咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。廣東實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe子公司

通過使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng),，科學(xué)家們實(shí)現(xiàn)了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導(dǎo)的微觀結(jié)構(gòu),。廣東實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe上海

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