雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。想要了解更多雙光子灰度光刻技術(shù),，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。廣東超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。廣東高精度灰度光刻無掩光刻靈活性高：由于無需制作實體掩膜版,，無掩膜光刻技術(shù)可以快速地更改光刻圖案，方便進行試制和修改,。

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司,，開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案,。其口號是：“我們讓小物件變得重要”,，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù)，對智能手機,、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品,。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機投入市場，他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案,，致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級3D打印光學(xué),，甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸,。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,，“Beers定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),，克服了這些限制,，提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作,?！凹{米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程,。

傳感器對可控技術(shù)的重要性,，在眾多領(lǐng)域都是顯而易見的，無論是從簡單的家用電器,，還是到可穿戴設(shè)備,，甚至到航空應(yīng)用,，只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能。理想的傳感器應(yīng)該具有高敏感度,，不易故障,，并且易于集成到流程中等優(yōu)點。光纖端面的微型傳感器在這個方面具有巨大的潛力,。這些傳感器空間占有率小,，可以輕松多路復(fù)用，并且不需要額外的外部能源供應(yīng),。對于這些基于光纖的傳感器的加工,，雙光子聚合技術(shù)已被證明是其完美的搭檔。事實上,，任何設(shè)計模型都能在微觀尺寸上被實現(xiàn),。然而，大多數(shù)設(shè)計都是靜態(tài)的,，打印出來的部件在被加工出來后不能進行進一步的活動,。如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動對準(zhǔn)到光纖和光子芯片上,，例如用于光子封裝中的光學(xué)互連,。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準(zhǔn)點或拓?fù)浠滋卣鳎_保對3D打印進行高度精確的對準(zhǔn),。Nanoscribe對準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準(zhǔn)3D打印的打印項目,。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織,，用于定義何時、何地,、以及如何進行打印,。在nanoPrintX中可以定義單個對準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面,。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,，可以識別這些特定的基板標(biāo)記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配,。對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配,。更多雙光子灰度光刻系統(tǒng)的內(nèi)容，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。廣東超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

灰度光刻技術(shù)還可以與其他先進技術(shù)相結(jié)合,，如直接激光寫入（Direct Laser Writing）等,。廣東超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復(fù)制工作,，并通過納米壓印技術(shù)進行復(fù)制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示,，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）,。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)廣東超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)