Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司如需了解更多全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容,，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維。黑龍江Nanoscribe灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄,，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，推動著諸如力學超材料，微納機器人,，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和,。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計自由的同時，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,，達到所見即所得,。。湖南2PP灰度光刻無掩光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點和應用,。

Nanoscribe獨有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度,，實現(xiàn)自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測,，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上,。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構(gòu)圖，實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準,。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的,。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次，即可實現(xiàn)具有光學級別,、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果,。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統(tǒng),。2GL®作為市場上快的增材制造技術(shù),，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下,，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍,。

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級衍射光學元件，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的應用,。

經(jīng)過10年的市場銷售，Nanoscribe已幫助了許多科學和工業(yè)領(lǐng)域的開拓者和創(chuàng)新的帶領(lǐng)者,，例如,，為ICT生產(chǎn)DOE,，微光學以及光子引線鍵合,。他們的新IP-Visio在30個國家/地區(qū)擁有1,000多個用戶,，受到業(yè)界的強烈關(guān)注。2019年6月該公司推出了一款新型的機器QuantumX,，使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,，尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,，“Beers定律對當今的無掩模光刻設(shè)備施加了強大的限制,，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制,，提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性,，我們的客戶正在微加工的前沿工作?！?。灰度光刻技術(shù)具有廣泛的應用領(lǐng)域,。廣東進口灰度光刻設(shè)備

灰度光刻技術(shù)采用圖像處理的方法,。黑龍江Nanoscribe灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點,。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。黑龍江Nanoscribe灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)