高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。另外,，Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等。Nanoscribe的打印設備具有高度3D設計自由度的特點且具備人性化的操作系統(tǒng),。江蘇雙光子NanoscribeMEMS

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭  德國德國Nanoscribe微納加工系統(tǒng)Nanoscribe是一家**的增材制造技術公司，專注于高精度的微納米級3D打印技術,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝,，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件,，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產母版工具。

作為微納加工和3D打印領域的帶領者,，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,，諸如力學超材料，微納機器人,，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動,，并完善了亞太地區(qū)客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰,，結構分類上更明確,。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫,，公司資訊和技術支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。更多有關雙光子聚合技術和產品咨詢,，歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司,。

所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡更多有關雙光子聚合技術和產品咨詢,，歡迎聯系納糯三維科技（上海）有限公司,。重慶2PPNanoscribeMEMS

Nanoscribe的3D打印設備具有高設計自由度和高精度的特點,。江蘇雙光子NanoscribeMEMS

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm。江蘇雙光子NanoscribeMEMS