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內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-02-10

雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過(guò)程。雙光子吸收是指物質(zhì)的一個(gè)分子同時(shí)吸收兩個(gè)光子的過(guò)程,,只能在強(qiáng)激光作用下發(fā)生,,是一種強(qiáng)激光下光與物質(zhì)相互作用的現(xiàn)象,,屬于三階非線性效應(yīng)的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產(chǎn)生的特別強(qiáng)激光的焦點(diǎn)處,,光路上其他地方的激光強(qiáng)度不足以產(chǎn)生雙光子吸收,,而由于所用光波長(zhǎng)較長(zhǎng),能量較低,,相應(yīng)的單光子過(guò)程不能發(fā)生,,因此,雙光子過(guò)程具有良好的空間選擇性,。雙光子聚合利用了雙光子吸收過(guò)程對(duì)材料穿透性好,、空間選擇性高的特點(diǎn),在三維微加工,、高密度光儲(chǔ)存及生物醫(yī)療領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景,,近年來(lái)已成為全球高新技術(shù)領(lǐng)域的一大研究熱點(diǎn)。該無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)適用于2D和2.5D拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)快速制造,,例如微光學(xué)衍射以及折射元件等.內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

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QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要:快速原型制作,,高精度,高設(shè)計(jì)自由度,,簡(jiǎn)易明了的工程流程,;工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn);200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,;通用及專門(mén)使用的打印材料,;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。歡迎咨詢,。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻雙光子聚合技術(shù)是近年發(fā)展起來(lái)的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交聯(lián)的一種新型的光聚合技術(shù)。

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隨著科技的不斷進(jìn)步,,雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)正以驚人的速度改變著我們的生活,。這項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù)利用雙光子效應(yīng),通過(guò)高能量激光束直接寫(xiě)入材料表面,,實(shí)現(xiàn)了高精度,、高效率的微納加工。它不僅在微電子,、光電子,、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力,,還為我們帶來(lái)了無(wú)限的想象空間。雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)的突破在于其能夠?qū)崿F(xiàn)超高分辨率的微納加工,。傳統(tǒng)的光刻技術(shù)受限于光的波長(zhǎng),,無(wú)法達(dá)到納米級(jí)別的加工精度。而雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)則能夠利用兩個(gè)光子的能量共同作用,,將加工精度提升到亞微米甚至納米級(jí)別,。這使得我們能夠制造出更小、更精細(xì)的微型器件,,為微電子行業(yè)帶來(lái)了巨大的發(fā)展機(jī)遇,。除了在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用,雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)還在光電子領(lǐng)域展現(xiàn)出了巨大的潛力,。通過(guò)控制激光束的強(qiáng)度和聚焦點(diǎn)的位置,,我們可以在光學(xué)材料中實(shí)現(xiàn)三維結(jié)構(gòu)的直接寫(xiě)入。這為光學(xué)器件的制造提供了全新的思路,,不僅能夠提高器件的性能,,還能夠降低成本。這對(duì)于光通信,、光存儲(chǔ)等領(lǐng)域的發(fā)展具有重要意義,。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,,并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,,可以通過(guò)激光直寫(xiě)而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,,以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性


雙光子聚合可以通過(guò)控制激光的光強(qiáng)和聚焦位置來(lái)實(shí)現(xiàn)加工的精度和形狀,,表現(xiàn)出很強(qiáng)的可控性。

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事實(shí)上,,雙光子聚合加工是在2001年開(kāi)始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,,也就是傳說(shuō)中的納米牛引起了極大的轟動(dòng):《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,,這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作,這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子,,其加工分辨率達(dá)到了120nm,,超越了衍射極限,,同時(shí)還沒(méi)有使用諸如近場(chǎng)加工之類的解決方案,而是單純的利用了材料的性質(zhì),。來(lái)自不來(lái)梅大學(xué)微型傳感器,、致動(dòng)器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),,利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),,將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級(jí)二維微流道中Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)打印微型通道的聚合物母版,,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?;陔p光子聚合技術(shù),,該激光直寫(xiě)系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn),。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),,該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻