德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商，也是BICO集團(tuán)（前身為Cellin）的一部分,，推出了一款新型高精度3D打印機(jī),，用于制造微納米級的精細(xì)結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱,，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué),、材料工程,、微流體、微光學(xué),、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度,、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn),?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學(xué)器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn),?！睔g迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司更多無掩模光刻系統(tǒng)的信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。江蘇2GL無掩膜光刻3D打印

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速,，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片,，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計(jì)的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作河南工業(yè)級無掩膜光刻設(shè)備無掩膜光刻技術(shù)運(yùn)用領(lǐng)域廣,，分辨高，如需了解更多請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,，包括玻璃,，硅晶片，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形,，非球形,，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究。

光學(xué)和光電組件的小型化對于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要,。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷,，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,，還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu),，包括光子集成電路，光纖頂端和預(yù)制晶片等,。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。想要了解無掩膜光刻的特點(diǎn)和用途，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。重慶無掩膜光刻激光直寫

無掩膜光刻技術(shù)助力創(chuàng)新,。江蘇2GL無掩膜光刻3D打印

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì),。另外,，Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。歡迎咨詢江蘇2GL無掩膜光刻3D打印