2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。如需了解更多全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容,，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維,。重慶灰度光刻無掩光刻

微納3D打印其實和與灰度光刻有點(diǎn)相似，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,，并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制,。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）,。微透鏡陣列也是類似,，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意,，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面,。浙江雙光子灰度光刻N(yùn)anoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設(shè)備應(yīng)用的領(lǐng)域,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常廣的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計和制造能力的特別好證明,。歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻系統(tǒng)。

Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄,，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，推動著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程,，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和,。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計自由的同時,，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件,，達(dá)到所見即所得。,。如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù),，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。江蘇德國灰度光刻系統(tǒng)

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Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點(diǎn),，您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案重慶灰度光刻無掩光刻