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天津高分辨率無(wú)掩膜光刻三維光刻

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-03-08

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),,可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。想要了解雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)在微納醫(yī)學(xué)中的應(yīng)用,,請(qǐng)關(guān)注Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。天津高分辨率無(wú)掩膜光刻三維光刻

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由于在紅外區(qū)域吸收率不高,,因此光敏樹(shù)脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,,同時(shí)也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計(jì),并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的高度,。由于其光學(xué)特性,,高折射率聚合物可促進(jìn)許多運(yùn)用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,例如光電應(yīng)用中,他們可以增加顯示設(shè)備,、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺(jué)特性,。此外,這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件,。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng),,內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測(cè)的微透鏡。河南2PP無(wú)掩膜光刻設(shè)備無(wú)掩膜光刻機(jī)具有無(wú)掩模光刻技術(shù)的便利,,很大程度提高了無(wú)掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率,。

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Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),,為全球客戶提供整套硬件,軟件,,打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),,為全球客戶提供整套硬件,,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù),。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),,結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹(shù)脂和生物材料,開(kāi)發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),,適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,,如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),,您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip)

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,,例如用光敏聚合物,,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,,并可以選擇添加金屬涂層,。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施,。無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)未來(lái)發(fā)展前景如何,,歡迎咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),,斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm,。Nanoscribe 的Quantum X 無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在多個(gè)領(lǐng)域運(yùn)用較廣。天津高分辨率無(wú)掩膜光刻三維光刻

Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上特別高分辨率的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),。天津高分辨率無(wú)掩膜光刻三維光刻

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