德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)，該系統(tǒng)是first基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué),。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。下面講講在衍射微光學(xué)中的應(yīng)用：多級衍射光學(xué)元件雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。如需詳細了解雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ?）的內(nèi)容請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。江蘇進口灰度光刻無掩膜激光直寫

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點在于：這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。上海工業(yè)級灰度光刻3D光刻由于灰度光刻的高精度特性，它可以有效地解決傳統(tǒng)光刻技術(shù)中存在的誤差和缺陷問題,。

傳統(tǒng)3D打印難以實現(xiàn)對于復(fù)雜設(shè)計或曲線形狀的高分辨率3D打印,，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會明顯增加對于平滑,、曲線或精細結(jié)構(gòu)的打印時間,。雙光子聚合技術(shù)（2PP）則可以解決這個難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）可實現(xiàn)體素調(diào)節(jié),，從而明顯減少打印層數(shù),。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實現(xiàn)的,。并且，這項技術(shù)已從原先適用于,。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®,，該技術(shù)具備實現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì)，并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面,。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)整激光功率,。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟,，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)級表面的任意3D打印設(shè)計的真實完美形狀,。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。灰度光刻技術(shù)的精度受到灰度值的影響,。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用,。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,，同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時間。另外,，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）,。湖南灰度光刻3D打印

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近年來,，利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟，其高精度,、高度可設(shè)計性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前,。與此同時，如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化,，也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點,。在現(xiàn)階段，對于3D飛秒激光打印技術(shù)而言,，具體來說就是利用其加工的高度可設(shè)計性來實現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化,，并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件，從而達到理想的應(yīng)用目的,。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件,，具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流,、灰度光刻,、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上，會產(chǎn)生場曲,。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場曲這種光學(xué)像差,，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進行校正,，從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲,。江蘇進口灰度光刻無掩膜激光直寫