全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,，可實現在25cm2面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學,，微流體,，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,，并以1MHz調制速率動態(tài)調整激光功率,。在科研領域,Nanoscribe 的系列3D打印設備幫助推動著微納光學，微機電系統等等領域的研究和發(fā)展,。青浦區(qū)微納3D打印廠家

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及比較廣的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明,。青浦區(qū)微納3D打印廠家更多關于Nanoscribe微納米3D打印設備的信息，請致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造,。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡,、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料,，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,，高色散和低阿貝數的特性,，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要，尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統的情況下,。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先，同時也是光通訊,、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度,。由于其光學特性，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用,，例如光電應用中,，他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性,。此外,，這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統,，內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡,。Nanoscribe微納米3D打印全方面涉足中國市場。

Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結構增材制造專業(yè)人才，一直致力于開發(fā)和生產3D微納加工系統和無掩模光刻系統,，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案,。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案,。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化,，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀你一起探討微納3D打印未來的發(fā)展趨勢,。青浦區(qū)微納3D打印廠家

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Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫,，而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中,，成像中的熒光強度和折射率高度相關，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化,。青浦區(qū)微納3D打印廠家