加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴,。我們成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工分離出來(lái)的單獨(dú)子公司，是一個(gè)充滿活力,、屢獲殊榮的公司,，并于2021年6月成為BICO集團(tuán)的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng),、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案,，我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來(lái)的應(yīng)用。Nanoscribe的用戶群體中,，有科學(xué)研究和工業(yè)的創(chuàng)新者,，包括生命科學(xué),、微光學(xué)、光子學(xué),、材料工程,、微流體、微力學(xué)和MEMS,。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現(xiàn)已發(fā)表在1300多份同行評(píng)議期刊上,。在工業(yè)制造領(lǐng)域，3D打印技術(shù)用于制造復(fù)雜的機(jī)械部件和定制的工業(yè)設(shè)備,。山東微納米3D打印三維光刻

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹(shù)脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái),。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率,。浙江Nanoscribe3D打印激光直寫(xiě)高分辨率的3D打印技術(shù)可以生產(chǎn)出比傳統(tǒng)制造工藝更小、更精確的零件,。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě)，而是在孔型支架內(nèi),。通過(guò)調(diào)整直寫(xiě)激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同,。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān),，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化,。

為了探索待測(cè)物微納米表面形貌,，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而,，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過(guò)去幾十年中沒(méi)有明顯的研究進(jìn)展，這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能,。如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,，以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí)，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及普遍的材料-基板選擇,。因此,，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室,。3D打印機(jī)又稱(chēng)三維打印機(jī)(3DP),是一種累積制造技術(shù),，即快速成形技術(shù)的一種機(jī)器。

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP),，發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝,。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來(lái)打印自由曲面光學(xué)元件。憑借這種全新的制造工藝,，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,，打印了世界上特別小的可聚焦可見(jiàn)光的龍勃透鏡（15μm直徑）。相似于人類(lèi)眼睛晶狀體的梯度,，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,，使其具有獨(dú)特的聚光特性。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě),，而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫(xiě)激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。3D打印技術(shù)是一種高精度,、高分辨率的增材制造技術(shù),。北京實(shí)驗(yàn)室3D打印三維微納米加工系統(tǒng)

能打印出組裝好的產(chǎn)品，因此降低了組裝成本,，甚至可以挑戰(zhàn)大規(guī)模生產(chǎn)方式,。山東微納米3D打印三維光刻

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,?？偠灾撓到y(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性（如生命科學(xué),、材料工程,、微流體、微納光學(xué),、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等）,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹(shù)脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。山東微納米3D打印三維光刻