QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,，同時保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué),、微光學(xué),、MEMS、微流道,、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,，實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。增材制造相比傳統(tǒng)減材制造更加的節(jié)省原料,，也更加的節(jié)約能源,。廣東超高速Nanoscribe微納光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。實驗室NanoscribeMEMS科學(xué)家們使用德國Nanoscribe 的3D打印設(shè)備制造了復(fù)雜的微孔膜結(jié)構(gòu),。

光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,，PIC)與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器,、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性，需要權(quán)衡對準,、效率和寬帶方面的種種要求,。

對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn),。首先,，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印,。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點,。剩下的一個挑戰(zhàn),，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對可能傾斜的基材表面的補償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。更多有關(guān)3D打印的技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 ,，歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,，擁有多項專項技術(shù),，為全球客戶提供整套硬件,，軟件，打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,，擁有多項專項技術(shù)，為全球客戶提供整套硬件,，軟件,，打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點,，結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu)，適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,，如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作,。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實現(xiàn)亞細胞結(jié)構(gòu)的三維成像,，適用于細胞研究和芯片實驗室應(yīng)用（lab-on-a-chip）,。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化,。此外,，3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器，包括植入物,，微針和微孔膜等制作,。憑借著獨有的3D微納加工技術(shù)，Nanoscribe參與了各種研究項目,，以開發(fā)基于集成光子學(xué)新技術(shù),。實驗室NanoscribeMEMS

這項技術(shù)具有快速、精確和可定制的特點,。廣東超高速Nanoscribe微納光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,，包括玻璃,，硅晶片，光子和微流控芯片等,，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。廣東超高速Nanoscribe微納光刻