Nanoscribe首屆線上用戶大會(huì)于九月順利召開,，在微流控研究中,，通常在針對(duì)微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì)結(jié)合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(xué)（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學(xué)（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結(jié)構(gòu)的芯片結(jié)構(gòu)打印到預(yù)制微納通道中,。生命科學(xué)研究的驅(qū)動(dòng)力是三維打印模擬人類細(xì)胞形狀和大小的支架,，以推動(dòng)細(xì)胞培養(yǎng)和組織工程學(xué)。丹麥技術(shù)大學(xué)(DTU)和德國(guó)于利希研究中心的研究團(tuán)隊(duì)展示了他們的成就，并強(qiáng)調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性,。在微納光學(xué)和光子學(xué)研究中,，布魯塞爾自由大學(xué)的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導(dǎo)等解決方案。阿卜杜拉國(guó)王科技大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)3D打印了一個(gè)超小型單纖光鑷,，以實(shí)現(xiàn)集成微納光學(xué)系統(tǒng),。連接處理是光子集成研究的挑戰(zhàn)。正如明斯特大學(xué)（WWU）研究人員所示,，Nanoscribe微納加工技術(shù)正在驅(qū)動(dòng)研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法,。麻省理工學(xué)院（MIT）的科學(xué)家們正在使用Nanoscribe的2PP技術(shù)制造用于高密度集成光子學(xué)的光學(xué)自由形式耦合器。納糯三維科技（上海）有限公司作為德國(guó)Nanoscribe在中國(guó)的獨(dú)有的子公司加強(qiáng)了在中國(guó)的銷售活動(dòng),。四川2PPNanoscribe三維光刻

對(duì)于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先,，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)重慶科研Nanoscribe子公司Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備具有極大設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn),。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像,。例如,，可接受高達(dá)32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,，以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造,。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行,，以便對(duì)每個(gè)掃描平面進(jìn)行全體素大小控制,。Nanoscribe稱，QuantumX在每個(gè)掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡(jiǎn)單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟，以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌,，可以在一個(gè)步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。

光學(xué)和光電組件的小型化對(duì)于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要,。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會(huì)有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷,，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,，還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu),，包括光子集成電路，光纖頂端和預(yù)制晶片等,。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級(jí)別的精確打印，為科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用提供了全新的可能性,。

Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中,，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化,。使用雙光子聚合,，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面,，GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,，通常為160納米至毫米范圍。此外,，使用GT2,，用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡，基板,，材料和自動(dòng)化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個(gè)元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求Nanoscribe技術(shù)是一種高精度的三維打印技術(shù)。重慶科研Nanoscribe子公司

Nanoscribe的3D打印設(shè)備具有高設(shè)計(jì)自由度和高精度的特點(diǎn),。四川2PPNanoscribe三維光刻

光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,，PIC)與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器,、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,，比如激光器,、電光調(diào)制器、光電探測(cè)器,、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權(quán)衡對(duì)準(zhǔn),、效率和寬帶方面的種種要求。四川2PPNanoscribe三維光刻